改造蒸发台行星盘系统提升工艺可靠性

目标设备蒸发台无法对行星盘实际转速做实时监控,工艺过程中晶圆产品转速处于失控状态,有很大的生产可靠性风险。针对这一问题对行星盘的转速监测系统做优化改造,实现了行星盘实际转速在设备电脑端的实时测量和实时控制。在行星盘转速出现异常时,设备能够立即停止工艺,等待人员处理,有效保证了晶圆产品的生产安全。同时,通过改造对载片行星盘转速直接测量控制,保证了工艺参数的精准度。     

端部离子源提升SiC器件金属膜层结合牢固度的研究

介绍了端部离子源的工作原理，分析了SiC功率器件金属膜层脱落的原因，针对SiC器件金属膜层脱落问题，提出了一种表征金属膜层结合牢固度的方法。采用端部离子源对金属膜层进行碳清除实验，发现当Si O₂介质清铣厚度超过10 nm时，金属膜层结合牢固度可靠，可满足工艺需求。