GaN_xAs_(1-x)/GaAs单量子阱发光性质及带阶研究

用光荧光谱 (PL )研究了 Ga Nx As1 - x/ Ga As单量子阱 (SQW)的光跃迁性质和带阶 .通过研究积分荧光强度与激发强度的关系及光谱峰值位置与温度的关系 ,发现 Ga Nx As1 - x/ Ga As单量子阱中的发光是本征带 -带跃迁 ,并且低温发光是局域激子发光 .通过自洽计算发现它的导带带阶 (ΔEc)与氮含量的关系不是纯粹的线性关系 ,其平均变化速率 (0 .110 e V / N% )比文献中报道的要慢得多 (0 .15 6～ 0 .175 e V / N% ) ,此外发现 Qc(=ΔEc/Δ Eg)随氮含量的变化很小 ,可以用 Qc≈ x0 .2 5 来表示 .还研究了 Ga Nx As1 - x/ Ga As单量子阱中氮含量的变化对能带弯曲参数 (b)的影响     

AlInGaN材料的生长及其光学性质的研究

研究AlInGaN材料的生长特性及其光学性质.通过对不同生长温度生长的三个AlInGaN样品的 测量，发现In的掺入量随着生长温度的降低而增加，而Al的掺入几乎没什么变化；在较低温 度下生长的材料具有较好的材料质量与光学特性，其原因直接与In组分的掺入有关，In组分 的掺入可以减少材料的缺陷，改善材料的质量.同时，用时间分辨光谱研究了AlInGaN材料的 发光机理，发现其发光强度随时间变化（荧光衰退寿命）不是指数衰减，而是一种伸展的指 数衰减.通过对这种伸展的指数衰减特性的研究，发现AlInGaN发光来自 关键词： AlInGaN MOCVD 局域激子 量子点