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1.
在某些情况下,在一线性介质和一非线性(克尔效应)介质的界面上,反射系数随光强的变化会表现出滞后效应。我们用~1ns 的红宝石激光脉冲入射到玻璃-CS_2界面上进行了实验,首次对这种滞后效应作了实验验证。本文介绍了这一实验结果。  相似文献   
2.
用锁模激光辐照半导体,利用光电导效应,可以产生与光同步的短电脉冲,再用电脉冲驱动普克尔盒又可以获得同步的光脉冲.由于光电导和电光效应无抖动,并有极快的响应,所以,用这种方法获得的两束光之间的先后起伏,主要由辐照半导体的激光的强度和波形的不稳定而决定,同步精度可达微微秒.本实验是用0.53微米锁模激光控制的GaAs高速光电子开关,驱动行波普克尔盒来获得高精度同步的0.6328微米激光的调制讯号输出.  相似文献   
3.
本文提出了一种四块晶片组合的 ADP 45°x(y)切调制器的设计方案。与常用的二晶片组合的ADP 45°x(y)切调制器相比,其显著优点是不但可以获得低的半波电压,而且驱动功率可以成倍地降低。该器件已研制成功,其调制性能如下:6328(?)时,半波电压100伏,消光比大于200∶1,100%调制时驱动功率15瓦/兆赫。  相似文献   
4.
以ADP调制器为例,探讨了组合型电光调制器补偿最佳化的实现途径。本文提出立足于二块晶体折射率不完全相同、长发不完全相等的实际情况,以恰当的排列不共线来获得高消光比的最佳补偿,是行之有效的途径,并在实验中得到证实。  相似文献   
5.
本文提出了一种四块晶片组合的ADP45°x(y)切调制器的新设计方案。采用这种方案,可以通过增加晶片对的数目来降低半波电压,驱动功率也将随着半波电压下降而同比例地下降。这种四晶片组合的ADP45°x(y)切调制器由两块45°x切晶片和二块45°y切晶片构成。其中半波片一侧的晶片每二块组成一对,使光束通过每一对晶体后都重新汇合成一束。这样,成对地增加晶片,可以仅仅增加晶片总长度,而不会迫使晶体宽度b也相应增加。而半波片两侧的  相似文献   
6.
当波导内放了一些介质,或存在其他不均匀性时,为了便于对波导内的电磁场进行分析,常常需要测量其分布.关于矩形波导内横电场的分布,目前都是采用探针法进行测量的,即在波导宽面上开一横向槽,将一探针沿此槽逐点移动而测得.这个方法虽还可靠,但横向槽切断了面上的纵向电流,对波导内的场必有较大扰动,槽的辐射、探针的扰动等也都会引起测量误差,而且,其结构也较复杂.  相似文献   
7.
本文对横向ADP电光调制器的稳定性作了概括分析,推导了估算工作点漂移的一般公式,并对研制的器件进行了实验分析。认为调制器的不稳定性可归纳为消光比改变及工作点漂移二类。而造成工作点漂移的主要因素为温度变化与光束方向变化。在小功率应用时,光束方向变化所造成的工作点漂移是调制器不稳定的主要原因,它可以通过施加偏置电压进行控制。  相似文献   
8.
采用组合型大孔径 DKDP 纵向电光调制器,成倍地降低了工作电压,并在较大的通光孔径下获得了优良的消光比。适用于激光记录、显示;也可用于非激光光源的调制。  相似文献   
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