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针对多晶硅淀积工艺对半导体桥性能影响严重的问题,开展多晶硅工艺优化实验,获得多晶硅淀积工艺优化条件,多晶硅半导体桥电阻稳定控制在1±0.07 Ω范围内,达到多晶硅桥的应用要求. 相似文献
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