TFT-LCD中隔垫物密度与Push Mura和低温气泡的关系

研究了隔垫物密度对Push Mura和低温气泡的影响.实验表明,通过增加隔垫物密度,能提高液晶面板的抗压强度,降低Push Mura发生率.但是,隔垫物密度过高会引起低温气泡发生.当隔垫物密度控制在适当范围内时,既能大大改善Push Mura,又不会发生低温气泡,且不影响产品的光学特性.     

探究广播电视监测中大数据技术的应用

随着我国广播电视的发展,其监测播出形态呈现多样化的形式,同时其涉及的领域和体量也越来越大,因此面对如此庞大的数据量,广播电视监测工作者如何获取有价值的信息成为行业面临的主要问题.本文从大数据的技术特点出发,通过对其在广播电视监测中应用前景的介绍,为有效分析监测数据提供参考依据.     

ODF工艺用封框胶的研究

研究了液晶面板制造ODF工艺用封框胶材料与周边Mura的关系.实验表明,通过提高UV光照量,调整封框胶中引发剂和偶联剂等活性成分,能有效地改善周边Mura,同时提高液晶面板的剥离强度.     

电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)测定铁镍软磁合金中的镍

研究了电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)快速测定铁镍软磁合金中的镍含量,确定了最佳测定条件,以波长221.647nm作为镍的分析线,对溶解酸和酸浓度的影响进行探讨,选择钇作为内标元素。分析试样得到结果的相对标准偏差RSD小于0.91%(n=6),方法回收率为99.8%～100.1%(n=6),分析结果与丁二酮肟分光光度法相一致。电感耦合等离子体原子发射光谱法比传统的化学法准确、快速,已成功用于生产中。     

ODF生产线设计

介绍了全自动液晶滴下(ODF)生产线设计的关键点.根据规划产能和设备节拍时间,计算了各种工艺设备的数量;研究了隔垫物系统、液晶滴下系统和成盒系统的工艺要求;根据工艺设备的运行特点、基板投入方式等要素探讨了搬运系统的运营方案.成功设计了国内第一条多功能全自动ODF生产线,并实现量产.     

TFT-LCD白点不良机理研究及改善

TFT基板四道掩膜版工艺可提升产能,但其带来的产品品质困扰着各工厂,白点不良即为四道掩膜版工艺产生.本文通过直流实验探究了白点产生的原因;采用光照实验和高温实验,研究了白点产生的机理,同时利用工艺调整来改善白点不良.结果表明,有源层膜质存在异常,其导电性不同导致了反冲电压(ΔVp)的差异,最佳公共电压的不同形成白点不良...     

电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)测定铁镍软磁合金中的镍

研究了电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)快速测定铁镍软磁合金中的镍含量,确定了最佳测定条件,以波长221.647nm作为镍的分析线,对溶解酸和酸浓度的影响进行探讨,选择钇作为内标元素。分析试样得到结果的相对标准偏差RSD小于0.91%(n=6),方法回收率为99.8%~100.1%(n=6),分析结果与丁二酮肟分光光度法相一致。电感耦合等离子体原子发射光谱法比传统的化学法准确、快速,已成功用于生产中。     

Zara漏光和Rubbing Mura改善研究

研究了摩擦强度对Zara漏光和摩擦痕Mura的影响。实验表明,当摩擦强度偏低时,Zara漏光易发生,而摩擦强度偏高时,则易引发摩擦痕Mura。通过选择合适的摩擦强度,可降低Zara漏光和摩擦痕Mura的发生率。另外,利用FIB对基板表面进行分析,找到了FFS型产品容易发生Zara漏光和摩擦痕Mura的原因。     

基于OFDM的IEEE802.11a的同步技术研究

OFDM技术因其在抗多径衰落方面的优越性能,并且实现起来较为简单、频谱利用率高,在无线环境下得到广泛的应用。该文介绍了无线局域网IEEE802.11a标准和其基于OFDM技术的系统结构,结合协议规定的具体OFDM分组结构,对采样时钟同步、符号同步、频偏估计、载波相位补偿以及信道估计等问题进行了详细分析研究,并提出了相应解决办法。     

一种窄带主动噪声控制系统次声学路径建模技术

本文针对最大长度序列相关(Maximal Length sequence Correlation，MLc)建模技术在窄带主动噪声控制系统次声学路径建模的应用中，系统性能易受窄带信号影响这一不足，提出了一种改进的MLC(MMLC)次声学路径建模技术。具体地说就是采用一个自适应预测滤波器来预测和消除MLC技术中的窄带干扰，并用一个补偿滤波器来修正由预测误差滤波器引起的训练信号成分失真。计算机仿真表明，MMLC算法能有效克服窄带主动噪声控制系统次声学路径建模的窄带信号影响，具有较高的建模精度。