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1.
TiO2/SiO2纳米多层膜光学特性研究
张杨
王维
圣桂金
田夏
《红外》
2007,28(2):12-14
采用磁控溅射方法在玻璃基底上制备了TiO2/SiO2纳米多层膜,用椭偏仪测试了薄膜的厚度和折射率。黑体实验研究表明,TiO2/SiO2纳米多层膜在800nm~1600nm区域内对红外线的吸收较好,且吸收率随着温度的升高而增大。红外光谱研究表明, TiO2/SiO2纳米多层膜在2300cm-1~2900cm-1区域内对红外线的吸收较好。
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