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1.
从石英在冲击波作用下的状态方程出发,根据高斯定理、动量守恒以及欧姆定律,采用拉普拉斯变换对压电电流进行了计算,其结果与Z.P.Tang^[1]进行了比较,并简单分析了其它一些因素对在冲击波作用下石英压电电流的影响。 相似文献
2.
研制太赫兹量子级联激光器的核心是制备以GaAs为代表的量子阱超晶格,在制备GaAs为代表的量子阱超晶格过程中,需要解决As缺位等基础性物理问题。采用激光分子束外延技术制备了GaAs外延薄膜,研究了实验参数对GaAs薄膜性能,特别是As缺位的影响。在线RHEED测试结果表明,GaAs可以实现外延生长。原位XPS和UPS等测试研究结果表明,激光分子束外延技术制备GaAs外延薄膜过程中存在As缺位问题,激光能量对GaAs薄膜中As含量具有明显的影响,要获得理想成分比的GaAs外延薄膜,需要较高的脉冲激光能量(600 mJ)。 相似文献
3.
对一种多元石英计的冲击动态响应进行了实验研究,实验结果表明,冲击压力低于2GPa的条件下,多元石英计测量单元压电电流动态响应的基本特征,以及在边缘效应影响下,测量单元压电电流起跳值的降低、斜升幅度的增加,都类似于短路型单元石英计,因而可应用于冲击作用,特别是空间非均匀冲击作用分布等的研究。 相似文献
4.
类金刚石膜在ICF研究中的潜在应用 总被引:2,自引:0,他引:2
类金刚石膜(DLC)是南sp3,sp2以及sp1键混合而成,具有优异的物理、化学性能.简要介绍了类金刚石膜的形成及性质,着重概括了它在惯性约束聚变(ICF)研究中的应用潜力,并进一步讨论了研究中存在的问题及今后发展的方向. 相似文献
5.
太赫兹量子级联激光器(THz QCL)是一种基于超晶格或耦合多量子阱中电子共振隧穿和子带间跃迁的单极光源,其辐射频率可通过能带和波函数设计进行调控,具有响应速度高、体积小、便于集成等优点。近年来,国际上多个科研团队展开了对THz QCL的密集研究,器件性能取得了显著的进展。针对THz QCL的实际应用,目前急切需要解决两个方面的问题:第一方面,受限于严重的大气衰减、光束合成等困难,急需解决THz QCL功率输出提升的问题。第二方面,研制窄线宽、高功率单模输出的太赫兹本振源。 相似文献
6.
Investigation of Zn_(1-x)Cd_xO films bandgap and Zn_(1-x)Cd_xO/ZnO heterojunctions band offset by x-ray photoelectron spectroscopy
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A series of Zn_(1-x)Cd_xO thin films have been fabricated on sapphire by pulsed-laser deposition(PLD), successfully. To investigate the effect of Cd concentration on structural and optical properties of Zn_(1-x)Cd_xO films, x-ray diffraction(XRD),ultraviolet-visible spectroscopy(UV-vis), and x-ray photoelectron spectroscopy(XPS) are employed to characterize the films in detail. The XRD pattern indicates that the Zn_(1-x)Cd_xO thin films have high single-orientation of the c axis. The energy bandgap values of ZnCdO thin films decrease from 3.26 eV to 2.98 eV with the increasing Cd concentration(x)according to the(αhν)~2–hν curve. Furthermore, the band offsets of Zn_(1-x)Cd_xO/ZnO heterojunctions are determinated by XPS, indicating that a type-I alignment takes place at the interface and the value of band offset could be tuned by adjusting the Cd concentration. 相似文献
7.
Zn1-xCdx O films are grown on c-sapphire substrates by laser molecular beam epitaxy(LMBE) at different temperatures. Their crystallographic structures, compositions, surface electronic structures are investigated. The a-axis lattice constant of Zn0.95Cd0.05 O is 3.20. Moreover, the epitaxial relationship shows a 30°-in-plane rotation of the film with respect to the c-sapphire substrate. When the substrate temperatures arrives at 500℃, the in situ reflection high-energy electron diffraction(RHEED) pattern of Zn Cd O film shows sharp streaky pattern. The maximum Cd content of Zn Cd O film grown at low substrate temperatures increases up to about 29.6 at.%, which is close to that of the ceramic target. In situ ultraviolet photoelectron spectroscopy(UPS) measurements demonstrate that Zn Cd O film exhibits intense peaks at 4.7 e V and 10.7 e V below the Fermi level, which are assigned to the O 2p and Zn 3p states. Energetic distance between Zn 3d and Cd 4d is 0.60 e V. Above 470 nm, the thin film shows excellent optical transmission. 相似文献
8.
9.
10.
采用直流磁控溅射法制备了不同厚度的金纳米薄膜,在高纯氮气气氛、800 ℃条件下快速退火,在石英基底上制备了具有表面微纳颗粒的新型金阴极。应用扫描电子显微镜对阴极的表面形貌进行表征,结果表明:阴极表面形成了均匀分布的金纳米颗粒,平均粒径随金纳米薄膜厚度的增加(5 nm至20 nm)从300 nm增大到800 nm。在190~360 nm紫外光下,对阴极的光电子发射特性进行了研究,结果表明:相对于平面阴极,新型金阴极的光电子发射效率提高了10倍以上,最高可达到平面阴极的16倍,且随颗粒粒径的减小而增大。采用三步光电发射模型对上述结果进行理论分析,表明阴极光电效率的提高主要由于阴极光电发射面积的增加和局域强电场导致的表面势垒降低。 相似文献