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Realization of Ultraviolet Electroluminescence from ZnO Homojunction Fabricated on Silicon Substrate with p-Type ZnO:N Layer Formed by Radical N2O Doping 下载免费PDF全文
ZnO homojunction light-emitting diodes are fabricated on Si(100) substrates by plasma assisted metal organic chemical vapour deposition. A p-type layer of nitrogen-doped ZnO film is formed using radical N2O as the acceptor precursor. The n-type ZnO layer is composed of un-doped ZnO film. The device exhibits desirable rectifying behaviour with a turn-on voltage of 3.3 V and a reverse breakdown voltage higher than 6 V. Distinct electrolumineseence emissions centred at 395nm and 490nm are detected from this device at forward current higher than 20mA at room temperature. 相似文献
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接近室温的更高工作温度是第三代红外探测器发展的重要方向。本文论述了用MBE在InSb(100)衬底上外延生长制备P-i-N型三元In1-xAlxSb薄膜合金材料,并通过制备单元器件进行了验证。采用RHEED振荡和X射线双晶衍射对In1-xAlxSb薄膜的Al组分进行了调控和检测。5.3 μm厚薄膜的FWHM≈50 arcsec,Al组分约1.9%。10 μm×10 μm原子力表面粗糙度RMS≈0.6 nm。制备的单元器件获得了预期的理想效果,为下一步面阵焦平面的制备奠定了基础。 相似文献
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软件bug问题在软件开发与维护过程中不可避免.然而软件历史库中的bug库与commit库之间没有直接的对应关系,并且随着bug信息、commit提交信息量的增长,搜索bug变得更加繁琐.本文提出一种基于知识图谱对bug问题进行探索性搜索的方法.通过建立bug报告、commit提交信息及相关人员(如:bug报告人、commit提交者等)信息的bug知识图谱,并结合探索性搜索的思想,不仅能准确搜索bug问题,还能提供相关辅助信息对bug问题进行探索性搜索,帮助软件开发人员更有效地理解和解决bug问题. 相似文献
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现阶段,大面阵碲镉汞红外焦平面探测器的需求持续增加,面向更大尺寸的碲镉汞材料制备技术成为了研究热点。对4 in硅基碲镉汞材料外延技术进行了研究。通过提升设备参数的稳定性、控制外延片的平整度以及优化材料工艺参数等一系列手段,突破了大尺寸硅基碲镉汞材料工艺的关键技术瓶颈,并制备出了高平整度、高均匀性、低缺陷率、高质量的4 in硅基碲镉汞材料。结果表明,该材料的双晶衍射半峰宽小于等于90 arcsec,表面宏观缺陷密度小于等于100 cm-2,表面平整度小于等于15 μm。 相似文献
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报道了基于分子束外延(Molecular Beam Epitaxy, MBE)碲镉汞(Mercury Cadmium Telluride, MCT)技术的大幅宽、多谱段、大像元高光谱红外探测器的最新研究进展。采用MBE技术制备出高质量MCT材料;采用成熟的n-on-p技术路线制备探测芯片,并针对特殊形状的大像元进行了优化;高光谱专用读出电路设计针对短波、窄谱段、小信号等典型特征进行了优化,并针对光谱应用加入行增益可调等功能设计。测试结果表明,组件基本性能良好,有效像元率大于99.5%,平均量子效率优于70%。 相似文献
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复合衬底CdTe/ZnTe/Si的晶体质量是导致随后外延的HgCdTe外延膜高位错密度的主要原因之一,因此如何提高复合衬底CdTe/Si晶体质量是确保硅基碲镉汞走上工程化的关键所在。降低复合衬底CdTe/Si位错密度方法一般有:生长超晶格缓冲层、衬底偏向、In-situ退火和Ex-situ退火等,本文主要研究Ex-situ退火对复合衬底CdTe/Si晶体质量的影响。研究表明复合衬底经过Ex-situ退火后位错密度最好值达4.2×105cm-2,双晶半峰宽最好值达60arcsec。 相似文献
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Ag掺杂对ZnO薄膜的光电性能影响 总被引:3,自引:1,他引:3
采用超声喷雾热分解法在石英衬底上以醋酸锌水溶液为前驱体,以硝酸银水溶液为Ag掺杂源,以高纯O2为载气生长了Ag掺杂ZnO(ZnO∶Ag)薄膜。研究了Ag掺杂ZnO薄膜的表面结构、电学和光学性质。结果表明所得ZnO∶Ag薄膜表面结构良好,扫描电子显微镜(SEM)测试表明薄膜表面光滑平整,结构致密均匀;在室温光致发光(PL)光谱中检测到很强的近带边紫外发光峰;透射光谱中观测到非常陡峭的紫外吸收截止边和较高的可见光区透过率,表明薄膜具有较高的晶体质量与较好的光学特性;霍尔效应测试表明,在550℃下获得了p型导电的ZnO∶Ag薄膜。 相似文献