非晶钛铝薄膜结构的RDF分析

非晶钛铝薄膜结构的ＲＤＦ分析王永瑞，邹　骐，刘震云，卢党吾（上海交通大学材料科学系，上海２０００３０）多年来，人们通过检测非晶、多晶薄膜的Ｘ射线衍射￣［１］或中子衍射呈径向对称分布的强度分布，导出其约化密度函数Ｇ（ｒ）和径向分布函数（ＲＤＦ），进而计...     

Ti－B－N超硬薄膜结构的能量过滤电子衍射分析

Ｔｉ－Ｂ－Ｎ超硬薄膜结构的能量过滤电子衍射分析王永瑞李戈杨＊王公耀＊王纪文李鹏兴＊（上海交通大学材料科学系，＊金属基复合材料国家重点实验室，上海２０００３０）超硬膜是指硬度远高于钢铁且牢固地镀在工模具上能明显地提高耐磨性的膜，如ＴｉＮ、ＴｉＣ、ｃ－Ｂ...     

化学沉积Ni—Cu—P合金镀层生长过程的原子力显微镜观察

用原子力显微镜（AFM）,对化学沉积Ni-Cu-P合金薄膜的表面形貌进行了观察,对多元化学沉积的机理进行了初步的研究。     

电子能量损失谱低能谱区的分析和应用

本文讨论电子能量损失谱低能谱区的分析及其在研究固体材料电子结构方面的应用。作为实例,给出了Bi_2Sr_2CaCu_2O_8高温超导体的体等离子色散试验结果和YBa_2Cu_3O_(7-x)高温超导体的电子能量损失谱低能谱区的计算机拟合分析试验结果。     

高温超导体Bi2Sr2CaCu2O8电子能量损失谱研究

自从发现高温超导体以来,对它的导电机理及电子结构研究引起了人们广泛的兴趣。本文用电子能量损失谱(EELS)研究了Bi_2Sr_2CaCu_2O_8超导体的价电子结构,能量损失函数及介电函数,计算了其它各种光学常数。实验过程为将烧结超导样品在盛有CCl_4的玛璃研钵中研碎,然后将其滴于由铜网支持的微孔碳膜上。实验在装备有GATAN-666同时检测电子能量损失谱仪     

非晶多晶薄膜结构快速有量过滤径向分布函数分析

介绍研究薄膜的新方法－－能量过滤电子衍射法，该方法借助透射电镜样品后扫描，薄膜的选区电子衍射花样顺序地扫过电子能量损失谱仪入口光闽，检测弹性散射电子强度与散射矢量关系，然后由径向分布函数理论，导出薄膜材料的最近邻原子间距和配位数等与结构有关的信息。通过多晶金薄膜和非晶钛铝薄膜的测试，获得满意结果。     

非晶Ni-Cu-P合金化学沉积过程的多重分形谱研究

用原子力显微镜测定了SiTiNPd基体,经不同沉积时间得到的非晶Ni13.1wt%Cu9.3wt%P薄膜的表面形貌,得到了AFM图像的多重分形谱.结果表明:随着沉积时间的增加,多重分形谱的宽度增加,Δf(Δf=f(αmin)-f(αmax))增大.说明沉积表面高度分布随着沉积时间的增加,不均匀性显著增加,镀层在水平和垂直方向生长并逐渐形成连续致密的镀层.这与对AFM图的观察是一致的 关键词： 多重分形谱 Ni-Cu-P合金 化学沉积 AFM图像     

介电函数及其在电子能量损失谱低能区分析的应用

一、前言:电子能量损失谱学(EELS或ELS)是研究电子激发的一次过程。一幅电子能量损失谱大致可分为三个区域:零损失区、低能损失区(5～50eV)和高能损失区(>50eV)。对各谱区进行细致的分析研究、可获得与样品化学成分或电子结构有关的信息。利用电子能量损失谱低能区研究固体的电子结构、引起物理和电子显微学界的关注。因为它不仅能提供固体的电子结构信息、还能在同一台仪器上研究固体的微区晶体结构、成分和形貌。但在电子能量损失谱5～50eV的低能区很难直接确定有关电子结构方面的信息。这是由于在该区等离子激发占主导地位、而外     

化学沉积Ni—Cu—P合金镀层成分的研究

本文系统地研究了化学镀液主要组分及ｐＨ值、温度、时间等条件对化学沉积Ｎｉ Ｃｕ Ｐ合金镀层的成分的影响。材料与方法在 45 #钢基片上进行化学沉积Ｎｉ Ｃｕ Ｐ合金镀层。基片镀前经砂纸打磨、除油及活化处理。镀液基本组成为 :ＮｉＳＯ4 ·6Ｈ2 Ｏ 2 5ｇ Ｌ、ＮａＨ2 ＰＯ2 ·Ｈ2 Ｏ 2 5ｇ Ｌ、ＣｕＳＯ4 ·5Ｈ2 Ｏ 3ｇ Ｌ、Ｃ6Ｈ5Ｏ7Ｎａ3·2Ｈ2 Ｏ6 0ｇ Ｌ、ＣＨ3ＣＯＯＮａ 2 0ｇ Ｌ。镀液ｐＨ值用ＮａＯＨ溶液调整至 1 0 ,镀液温度控制在 90℃ ,时间为 6 0ｍｉｎ。每次试验以上述条件为基础 ,变化一项 ,研究其影响。其中各项组成的…     

非晶多晶薄膜结构快速能量过滤径向分布函数分析

介绍研究薄膜结构的新方法—能量过滤电子衍射法。该方法借助透射电镜样品后扫描，使薄膜的选区电子衍射花样顺序地扫过电子能量损失谱仪入口光阑，检测弹性散射电子强度与散射矢量关系，然后由径向分布函数理论，导出薄膜材料的最近邻原子间距和配位数等与结构有关的信息。通过多晶金薄膜和非晶钛铝薄膜的测试，获得满意结果。