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1.
采用射频等离子体辅助分子束外延技术生长得到了In组分精确可控且高质量的InxGa1-xN (x ≤ 0.2) 外延薄膜. 生长温度为580 ℃的In0.19Ga0.81N薄膜(10.2) 面非对称衍射峰的半高宽只有587弧秒, 背景电子浓度为3.96× 1018/cm3. 在富金属生长区域, Ga束流超过N的等效束流时, In组分不为零, 即Ga并没有全部并入外延层; 另外, 稍微增加In束流会降低InGaN的晶体质量.
关键词：
InGaN 外延薄膜
射频等离子体辅助分子束外延
In 并入
晶体质量 相似文献
2.
A reasonably-thick GaNAs/GaInAs superlattice could be an option as a roughly 1 eV subcell to achieve high-efficiency multi-junction solar cells on a lattice-matched Ge substrate. A detailed consideration of a high-efficiency design for a GaInP/GaAs/1 eV/Ge device is presented. Calculations have been done for this structure to obtain the confined energies of the electrons and holes by utilizing the Kronig-Penney model, as well as the absorption coefficient and thereby the external quantum efficiency. The effect of well layers, GaNAs or GaInAs, on the absorption and photocurrent density under the AM 1.5 condition is discussed in order to realize a requirement of current matching in the four-junction solar cells. The management of these considerations implies the feasibility of the GaNAs/GaInAs superlattice subcell design to improve the overall conversion efficiency of lattice matched GaInP/GaAs/1 eV/Ge cells. 相似文献
3.
采用分子束外延(MBE)生长技术生长了周期厚度不同的1 e V吸收带边的Ga N0.03As0.97/In0.09Ga0.91As应变补偿短周期超晶格(SPSL)。高分辨率X射线衍射(HRXRD)测量结果显示,当周期厚度从6 nm增加到20 nm时,超晶格的结晶质量明显改善。然而,当周期厚度继续增加时,超晶格品质劣化。对超晶格周期良好的样品通过退火优化,获得了具有低温光致发光现象的高含N量Ga NAs/In Ga As超晶格,吸收带边位于1 e V附近。使用10个周期的Ga NAs/In Ga As超晶格(10 nm/10 nm)和Ga As组成的p-i-n太阳电池的短路电流达到10.23 m A/cm2。经聚光测试获得的饱和电流密度、二极管理想因子与由电池暗态电流-电压曲线得到的结果一致。 相似文献
4.
使用In, N分离的GaInAs/GaNAs超晶格作为有源区是实现高质量1eV带隙 GaInNAs基太阳能电池的重要方案之一. 为在实验上生长出高质量相应吸收带边的超晶格结构, 本文采用计算超晶格电子态常用的Kronig-Penney模型比较了不同阱层材料选择下, 吸收带边为1 eV的GaInAs/GaNAs超晶格相关参数的对应关系以及超晶格应变状态. 结果表明: GaNAs与GaInAs作为超晶格阱层材料在实现1 eV的吸收带边时具有不同的考虑和要求; 在固定1 eV的吸收带边时, GaNAs材料作为阱层可获得较好的超晶格应变补偿, 将有利于生长高质量且充分吸收的太阳能电池有源区.
关键词：
GaInAs/GaNAs超晶格
Kronig-Penney模型
太阳能电池 相似文献
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