基于规则的光学邻近矫正中规则的相关处理

讨论了如何选择适当的规则,如何建立简洁实用的规则库,如何应用规则库.提出了四种主要的光学邻近矫正规则,在实验结果中列举了规则库中的部分数据.利用规则矫正后的版图光刻得到的硅片图形有了明显的改善.规则库的自动建立部分 (OPCL)是基于规则的光学邻近矫正系统的重要组成部分.     

VEAP:基于全局优化的有效VLSI布局算法

本文中，针对规则的VLSI设计模式（门阵列，标准单元等），我们提出一种新的非常简单有效的布局算法．该算法基于严格的数学分析，可以证明能够找到全局最优解．在实验中发现，对于很大规模的电路，我们的算法比现有的所有算法都快．此外，我们的算法还能够同时适应于线长优化和时延优化模式．     

一种应用于二次布局的有效划分方法

提出了一种基于二次布局的结合MFFC结群和hMETIS划分的算法.实验表明:这种方法能得到很好的布局结果,但是运行消耗的时间比较长.为了缩短划分在二次布局中运行的时间,提出了一种改进的结群算法IMFFC,用它在二次布局中做划分.与前者相比较,这种方法虽然布局质量稍差,但速度更快.     

基于单元规则度信息的提取和实现的Data-Path布局算法

提出了一种有效的Data-Path布局算法DPP,该算法基于一个新的"不规则度"概念来评价电路单元之间连接关系的规则性信息,并根据这些规则性信息提取规则化的单元形成规则矩阵;然后算法把规则矩阵转化为二次布局的约束条件进行最终的布局.与Cadence公司布图工具SE的对比实验表明,DPP是一种有效地针对Data-Path子电路的布局算法,它在时延平衡方面可以得到非常满意的结果.     

VLSI和PCB双层布线中的通孔最少化算法

本文提出了一个新的通孔最少化层分配的图模型．该模型克服了传统层分配算法对通孔度数和位置的限制，允许通孔自由地以任意度数和任何需要的位置出现．模型中还提出了通孔秩的概念，它比较能更精确地反映通孔的本质．在此基础上，本文将通孔最少化问题转化为图的最大割问题，并提出了一种启发式算法去求解图的最大割．算法已用Ｃ语言在ＳＵＮ工作站上实现．实验结果表明，算法十分有效且稳定．     

一种带权动态调整的总体布线算法及其实现

本文对现有的总体布线方法及宏单元阵列总体布线问题进行了详细分析,提出了一种基于带权动态调整思想的适合于宏单元阵列一层半和双层版图模式的总体布线算法,其目标是合理地利用已确定的布线区域,使各线网均匀地分布在芯片上,获得尽可能高的布通率。     

一种新的标准单元增量式布局算法

提出了一种新的增量式布局方法W-ECOP来满足快速调整布局方案的要求.与以前的以单元为中心的算法不同,算法基于单元行划分来进行单元的插入和位置调整,在此过程中使对原布局方案的影响最小,并且尽可能优化线长.一组从美国工业界的测试例子表明,该算法运行速度快,调整后的布局效果好.     

优化的基于模型的光学邻近矫正算法

提出了一种新的优化的基于模型的光学邻近矫正算法,该算法充分考虑了图形内部及图形之间的光学邻近影响,实现了线段切割和移动步长的自适应性,提高了系统的矫正精度及矫正速度,实验结果表明该算法是有效的.     

考虑光学邻近效应的详细布线算法

提出了一种考虑光学邻近效应的详细布线算法.该算法在布线过程中,充分考虑了线网走线相对位置及布线线形对其光学邻近效应的影响,通过相应的光刻模拟模型定义了用于估计光学邻近效应(optical proximity effect,OPE)的OPE费用函数,并采用OPE费用阈值控制Steiner树的生长方向和走线路径的选择,同时兼顾线网长度.为提高算法效率,避免布线过程中反复调用光学模拟程序带来的算法运行速度慢的问题,对可能的走线模式建立了计算OPE费用所需的光强查找表格,使算法的运行速度大大提高.在实际的工业用例上的实验结果表明,本文所提出的详细布线算法使布线结果中的OPE问题得到很大程度的改善,有利于后处理过程中的光学邻近效应校正技术的运用,算法的运行时间是可以接受的.     

一种新的无网格拆线重布算法

结合无网格布线的特点,提出一种新的无网格拆线重布算法.该算法显式地表示并动态更新线网所属区域的拥挤程度.在拆线重布进行待布线网的路径搜索时,每个扩展节点中增加拆除线网周边的拥挤权重,从而将待布线网的路径搜索过程和拆除线网的选择过程统一起来,有效地提高了被拆除线网重新布通的可能性.该算法利用改进的二叉区间树有效组织中间数据,降低计算的复杂度.实验结果表明,该算法能有效消除布线顺序对布线结果的影响,提高布通率,且算法运行速度较快.