V3+:YAG晶体的生长、色心与光谱性能研究

采用石墨电阻加热的温梯法生长了V:YAG晶体,晶体的不同部位呈现两种不同的颜色:浅绿色和黄褐色.通过对比分析不同颜色V:YAG晶体的室温吸收光谱,推断出石墨发热体高温下扩散出来的C可以起到还原作用,提高晶体中V3+tetra离子的浓度,同时诱导了F心的形成.在1300℃下,对不同颜色的V:YAG晶体进行真空退火处理,发现处于八面体格位中的V3+离子在热激发作用下与近邻的四面体格位Al3+离子存在置换反应,由此产生一定浓度的四面体格位V3+离子.同时,F心在退火过程中被完全消除,释放出来的自由电子被高价态的V离子俘获,可以进一步提高晶体中四面体格位V3+离子的浓度.     

中药微量挥发成分的联机分析：藿香头香成分分析

本文设计了直接蒸馏-顶空分析-预柱低温富集-毛细管色谱-质谱联机分析技术,有效地提取、浓缩、分离和鉴定了藿香的香气成分。实现了天然产物微量多组分的联机快速分析。并首次在霍香的头香成分中发现了乙酸甲酯、3-甲基丁酮、3-甲基-3-丁烯酮等一系列分子量小、易挥发的成分。     

圆筒网涂层激光清除的扫描覆盖模型研究

为了提高圆网聚合物覆膜激光清除中扫描覆盖率及光强分布均匀性,提出了一种线式扫描轨迹光强叠覆优化模型。通过分析圆筒转速与激光单点光斑轨迹,分析了清洗区域光斑在圆筒表面的覆盖域规律,建立激光线式扫描轨迹运动函数;由此建构了激光扫描覆盖模型,探究了圆筒转速、激光扫描线速度以及激光平移速度的关联关系,分析了联合运动的激光光斑分布规律;最后,通过与光斑高斯光强进行拟合分析,得到了圆筒转速与光强均度优化参数,实现激光在圆筒网的能量均匀覆盖。对镍金属圆网表面聚合物涂层进行激光辐照实验,并利用红外光谱测试仪检测样本,实验表明:圆网清洗区域涂层特征峰吸光度近似一致,验证了优化参数下光强分布的均匀性。     

联合均衡和多重深度TCM译码技术研究

针对ATSC DTV系统,提出一种多重深度TCM译码作为软判决的联合均衡及译码方案,从而降低误差传播,提高了均衡器的性能.新方案仅增加了译码输出单元,复杂度较深度为1时增加并不大.当采用译码深度为1的TCM译码输出作为反馈,比硬判决反馈时的均衡器收敛门限降低了6 dB.当最大的译码深度增加到6时,均衡器收敛的门限进一步降低了3 dB,从而比硬判决时均衡器的收敛门限降低9 dB.     

基于FPGA的MPEG-2复用器中FIFO的一种设计方案

多路节目复用器是各种数字电视传输系统的关键设备之一,自行设计复用系统专用芯片己成为我国数字电视系统需要解决的迫切问题。首先介绍了多路数字节目复用器中的对多路预处理传送流复用的原理,提出了一套基于FPGA(现场可编程门阵列)的复用器输入部分设计方案。通过实践验证,达到了设计要求。     

塑化剂迁移量测定和迁移模型研究进展

综述国内外塑化剂迁移量测定和迁移模型研究进展,从创新实验测定方法和实验误差分析的角度简要评述了迁移量测定的研究成果;从数学模型的角度对微分方程模型、统计模型和计算机模拟3类重要迁移模型进行评述。最后指出,测定实验和迁移模型相结合来研究塑化剂迁移问题是未来一个值得重视的方法。     

高功率激光二极管抽运的镱钠共掺氟化钙连续激光器

掺镱氟化钙(Yb3+:CaF2)激光器是最近国际上研究的热点之一,2008年报道的该类激光器,在64 W激光二极管(LD)的抽运下,实现了平均输出功率10.2 W的连续激光输出.利用国产镱钠共掺的氟化钙(Yb,Na:CaF2)激光晶体,采用三镜折叠腔型和激光二极管抽运,获得了该类激光器(Yb,Na:CaF2/Yb:CaF2)的高功率连续输出.实验参数为:输出耦合镜的透过率为4%,激光二极管的最大输出功率为40 W,中心波长为976 nm.当吸收抽运功率18.2 W时,获得了14.5 W的最高功率连续激光输出,相应的斜率效率为80%.结果表明,国产Yb,Na:CaF2晶体具有低激光阈值和高负载能力,是一种优良的高功率激光材料.     

β‘—Gd2（MoO4）3晶体生长中的过冷现象研究

对电阻加热引上法和感应加热引上法生长β‘-Gd2(MoO4)3晶体的实验结果进行了比较，分析了两种方法生长晶体过程中熔体过冷和组分过冷的情况。研究认为组分过冷主要与生长过程中MoO3的挥发，Gd2(MoO4)3熔体的粘度及固液界面的温度梯度有关，并认为感应加热引上法较之电阻加热引上法容易得到优质晶体。     

电力变压器铁芯接地故障的排除

近年来,电力变压器铁芯接地故障的排除得到了快速发展和广泛应用,研究有着重要意义。本文首先对相关内容做了概述,分析了变压器铁芯接地的原理,以及心多点接地故障的检测方法。在探讨电力变压器铁芯接地故障产生原因及其故障分析及处理的同时,研究了防止铁芯多点接地的措施及检测方法。     

基于P-V双因素的网络激光标刻性能研究

传统激光标刻技术已在实际工业生产中普遍应用,但其系统最优标刻性能控制参数存在寻找及设置较为困难、繁琐等问题。针对该问题,本文设计了一种基于嵌入式网络激光标刻模式的新型激光标刻控制模型,并在该模型下通过相关数据预处理算法分析单一标刻影响因素对激光标刻性能的影响;再通过对实验数据的数理统计分析得出二值图像的标刻性能变化规律,最终得出在该材质及类似组成工件下的激光标刻的最优参数快速选择模型和性能最优值域。研究结果表明,该模型为最优激光标刻性能控制参数的快速选择提供了可靠的方法,为进一步研究激光标刻性能影响参数提供了重要参考。