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金属蒸气真空孤离子源及其束流密度分布   总被引:2,自引:0,他引:2  
我们研制了一种金属蒸气真空孤(MEVVA)离子源。这是一种新型的强流金属离子源,特别适用于离子注入材料表面改性中。测量了该源的引出束流密度分布,并估算了束散角和发射度。  相似文献   
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