光学介质薄膜断面的电子显微镜样品制备技术

随着现代科学技术的不断发展,光学介质薄膜已被广泛地应用于各个部门。它的种类很多,其特性及用途亦各不相同,即使同一种材料的介质薄膜,由于生产制备工艺不同,亦会引起其特性的变化。例如:牢固性、机械强度、表面结构和内部结构形态的差异等等。为了探索介质薄膜的微观形态变化,可以采用电子显微镜这一近代科学仪器。     

Ti_3O_5——反应蒸发镀制TiO_2光学膜的材料

一、前言研制高消光比硬质偏振片选择SiO_2-TiO_2组成的非规整膜系进行,采用任意厚度控制方法(该方法获得了国家发明奖)镀制非λ/4膜系最基本的条件要求在整个镀膜过程中TiO_2膜折射率稳定,再现性好。因此,必须保证蒸镀过程中蒸发材料结构、成分稳定,蒸镀工艺参数稳定可靠,而直接用TiO_2材料不能满足上述条件,为此研究一种新的含钛的氧化物作为镀膜原料是很必要的。二氧化钛薄膜具有优良的机械、化学、光学性能,是光学和电学应用最重要的介质薄膜     

光学介质薄膜断面的电子显微镜样品制备技术

随着现代科学技术的不断发展,光学介质薄膜已被广泛地应用于各个部门。它的种类很多,而其特性及用途亦各不相同,即使同一种材料的介质薄膜,由于制备工艺的不同,会引起其特性的变化。例如;牢固性、机械强度、表面及内部结构形态的差异等等。采用电子显微镜有可能为广大科技人员了解到介质薄膜微观结构的变化。对于介质薄膜断面的研究,能较全面地剖析膜层与基片、膜层与膜层之间的结合情况和内部晶粒变化,以及不同烘烤温度和时间对膜层的结合、牢固性和机械强度等影响,从而改进工艺,制备出较为适用和可靠的薄膜。     

富碲组份对碲镉汞器件性能的影响

本文研究了光谱响应范围在3～5μm的蹄镉汞光导探测器材料中镉碲组份及晶体结构对器件性能的影响。认为材料中蹄镉组份的同时测定对于晶体材料品质的评价是很重要的。实验证明,在一定x值的条件下,蹄组份值一般偏向富蹄范围。当富蹄组份含量不超过或低于50.0～51.0 ％(原子)范围,蹄的含量越接近于化学计量比50.0％ (原子)时,晶体结构越趋完整。相应于晶体的电学性能也较好。反之亦然。本研究可提供筛选晶片时的依据。