电磁屏蔽膜设备的开发及应用

介绍了国内外对电磁屏蔽膜(EMI)研究的现状,比较了制备EMI膜的各种方法,指出采用磁控溅射法制备的EMI膜质量较好,并给出制备EMI膜的工艺流程。     

减反膜制备工艺及其应用

减反膜在现代光学薄膜生产中占有十分重要的地位,其研究依赖于制备工艺。本文结合近几年来国内外研究现状,叙述了几种不同的减反膜制备方法,分析了各种制备方法的工艺特点以及各自的优缺点,如真空蒸镀法、溅射镀法、溶胶一凝胶法等。并提出了相应的改进方法,分析了这些工艺在减反膜制备中的应用前景,为减反膜的制备提供了参考。     

高反膜镀制工艺研究的新进展

叙述了近几年国内外的研究进展,包括高反膜几种不同的制备工艺,如电子柬蒸发沉积、离子束辅助沉积、离子束溅射沉积和溶胶-凝胶沉积法等,分析了各种制备方法及工艺的特点;针对高反膜的抗激光损伤阈值低从而影响激光器输出功率的问题,讨论了提高损伤阈值的途径;最后归纳了各种制备工艺的优缺点,并探讨了进一步提高薄膜反射率的可能性。