基于Taurus Workbench的亚微米n沟MOS器件关键工艺参数的优化

简要介绍了集成电路虚拟工厂系统Taurus Workbench。对亚微米n沟MOS工艺的特点进行了分析。在Taurus Workbench环境下进行亚微米n沟MOS器件关键工艺参数的优化，优化结果印证了新工艺条件对器件性能的改善。     

深亚微米集成工艺仿真系统TSUPREM-4的功能及应用

介绍了TSUPREM-4集成电路工艺仿真系统的主要仿真功能及系统的深亚微米模型。以LDD结构的NMOS器件为例进行了二维工艺仿真,得到了NMOS器件的二维剖面结构、杂质浓度的等值分布描述以及相应的电学特性。     

Taurus Workbench虚拟IC芯片加工系统

介绍了被业界称之为“虚拟集成电路芯片加工厂”的TCAD集成化仿真系统Taurus Workbench（TWB)及其优化机制。