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A novel read-only memory (ROM) disc with an Ag11ln12Sb51Te26 super-resolution mask layer is proposed and investigated for the first time to our knowledge. The carrier-to-noise ratio of more than 40 dB could be obtained from small pits (380nm), which are below the readout resolution limit (400nm), in our dynamic setup with a wavelength of 632.8 nm and numerical aperture of 0.40. Dependences of carrier-to-noise ratio on readout power,readout velocity and film thickness are studied. The results show that the optimum film thickness is 20-50nm and the corresponding carrier-to-noise ratio is more than 40dB at readout power of 4mW and readout velocity of 2m/s in our experiment. The super-resolution readout mechanism for this ROM disc is also discussed. 相似文献
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表面粗糙度测量的磁光位相调制和锁相干涉 总被引:1,自引:0,他引:1
提出了一种表面粗糙度测量的新方法,该方法采用了微分偏振干涉的原理,利用由法拉第磁光调制器所组成的调制系统对偏振干涉光路的位相进行调制,利用锁相干涉原理对位相进行探测,该方法可实现无参考面快速非接触测量,在普通实验条件下,也可保持良好的稳定恶性循环 ,实验装置即可给出表面的轮廓又可给出其它统计数据,其横向分辨率为1.2μm纵向为2nm。 相似文献
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A novel super-resolution near-field optical structure (super-RENS) with bismuth (Bi) mask layer is proposed in this paper. Static optical recording tests with and without super-RENS are carried out using a 650-nm semiconductor laser at recording powers of 14 and 7 mW with pulse duration of 100 ns. The recording marks are observed by high-resolution optical microscopy with a charge-coupled device (CCD) camera. The results show that the Bi mask layer can also concentrate energy into the center of a laser beam at low laser power similar to the traditional Sb mask layer. The results above are further confirmed by another Ar~+ laser system. The third-order nonlinear response induced by the plasma oscillation at the Bi/SiN interface during laser irradiation can be used to explain the phenomenon. The calculation results are basically consistent with our experimental results. 相似文献
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波片相位延迟量精密测量新方法 总被引:18,自引:7,他引:11
利用旋转波片的偏振干涉技术,结合机械-光学旋光调制器对光相位的调制,通过判断方波信号的有无,可精密地确定被测定片相位延迟的数值,机械-光学旋光调制器的使用,大大简化被测样品和测试装置中四分之一波片光轴方位的调整,也显著地提高了装置测量的灵敏度和波长测量范围,对环境不作特殊控制,依据本方法建立的测试装置的相对测量误差可小于千分之五。 相似文献
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针对早期研制的激光直写装置存在的刻写速度慢、功能不够完善的缺点,重新设计并搭建了一套小型激光直写光刻系统。该系统采用波长405nm可高速模拟调制的单横模半导体激光器作为刻写光源,结构更为简单紧凑;采用正弦振荡模式控制纳米平台运动,大幅度提高了刻写速度;增加了刻写光源功率校正功能、基于互补金属氧化物半导体(CMOS)相机的样品观察功能、蓝光共聚焦成像功能以及刻录光源功率衰减以实现一般光刻胶刻写的功能。通过记忆调焦数据,刻写蓝光、辅助聚焦红光以及样品观察绿光三束光分时工作,互不干扰。实验表明,该光刻系统可在光敏薄膜材料上进行打点、刻画矢量和标量图形等多种操作,刻写范围200μm×200μm,最少用时100s,刻写分辨率在250nm以内。 相似文献
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理论上分析了静动结合的化学腐蚀法制备探针的具体机理及过程。在静态腐蚀的过程中, 利用流体力学Young-Laplace方程的一级近似解获得了光纤插入到HF酸中形成的新月形高度。在动态腐蚀过程中, 详细分析了当静态腐蚀时间和动态腐蚀时间分别取不同值时, 光纤移动速度对光纤探针结构的影响。利用此法可制备出尖端锐利、大锥角或多锥体等各种结构的光纤探针。这为实验上制备出性能优良的探针, 为拓宽扫描近场光学显微镜的应用范围奠定基础。将上述理论分析的结果与本文实验中所得初步结果进行了比较, 所得结果一致。 相似文献
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在光学表面粗糙度测量中,激光光学表面轮廓仪以其非接触测量,无需对作品表面进行镀膜处理,不受光学表面高度分布的限制,且高速和高精度,因而受到国内外光学测试专家的重视。 各种类型和性能的激光光学表面轮廓仪的出现,标志着这一领域内所取得的成就。本文将介绍的是一种新型激光光学表面轮廓仪,它吸收了近几年来国内外对各种粗糙度测试仪研究的成果,应用多项技术和特殊设计使仪器可在普通的环境下正常运行,结构更简 相似文献