内表面粗糙度测量仪

介绍了一种基于光散射原理的便携式内表面粗糙度测量仪。它利用半导体激光器为光源,用光电二极管阵列接收经粗糙表面调制的散射光带,通过测量该散射光的光学特征值,得出粗糙度参数。仪器的测量范围R8为0.005~1．6μm,测量相对误差δ＜5%,重复测量不稳定性小于±2%。可以对多种机械加工零件的内外表面进行非接触在线检测。     

内表面粗糙度在线测量仪

为满足军工产品的在线测量需要 ,开发了一种基于光散射原理的便携式内表面粗糙度在线测量仪。它利用半导体激光器为光源 ,光电二极管阵列接收与表面粗糙度具有对应关系的散射光带。由于采用了远心光路的设计和对光源进行了电光调制成功地提高了仪器的测量精度和抗干扰性能。仪器的测量范围Ra:0 .0 0 5～ 1.6 μm ,测量相对误差δ<5 % ,测量重复性优于± 2 % ,适合对多种机加工形成的零件的内、外表面进行非接触在线检测     

光学参数配置对ArF光刻性能影响研究

针对分辨力100nm的ArF光刻机,在环形照明和四极照明下,对4种曝光图形结构光刻性能进行了仿真研究。仿真结果表明,如果光刻物镜在加工装调后的光波像差为6nm,杂散光为2%,工件台运动标准偏差为8nm,曝光量控制在10%,CD≤±10%CD,利用四级照明,可以在较大的焦深范围内(DOF≥0.4～0.5μm)实现满足器件要求的100nm密集线条、半密集线条的光刻成像。当曝光剂量更精确控制到7%,可以在较大的焦深范围内(DOF≥0.4～0.5μm)实现满足器件要求的100nm孤立线条的光刻成像。