掺镱石英光纤预制棒的制备与表征

采用改进化学汽相沉积结合溶液掺杂法制备了掺镱石英光纤预制棒,并研究了不同镱掺杂浓度下的吸收光谱和发光光谱.吸收光谱和发光光谱的强度随着YbCl₃溶液浓度的增大而增强.在不产生失透的前提下,得到预制棒芯层能够掺杂的YbCl₃溶液最大浓度为0.057 mol/L.     

全合成法光纤预制棒制造研究

介绍了一种全新的全合成法G.655和G.656光纤制造工艺,详细分析了该工艺中芯层折射率差Δ0、芯层厚度a、第二包层的折射率差Δ2、第二包层的厚度c2等结构参量与光纤光学性能的关系.结果表明,制造该两种光纤时,Δ0应在0.012 0～0.015 5之间,Δ2应在0.014 0～0.023 0之间,a应在2.8～3.2 μm之间,c2应在满足截止波长的要求下尽可能小.     

接入网用光纤光缆技术的发展

 云计算、物联网等新概念的出现进一步推动了全光网的快速发展,其中光网络的接入技术和产品成为光纤技术当前最为热门的话题之一。本文对接入网用的单模光纤特别是弯曲损耗不敏感的单模光纤的研究进展进行了介绍,同时对接入网用光缆的技术和产品进行了分析,详细介绍了几种典型的馈线光缆、配线光缆和入户光缆。     

种子溶胀悬浮聚合法制备分子印迹聚合物微球

 以酪氨酸为印迹分子 ,甲基丙烯酸为功能单体 ,三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯 (TRIM )为交联剂 ,采用种子溶胀悬浮聚合法在水溶液中制备了一系列分子印迹聚合物微球 (MIPMs)。利用扫描电镜 (SEM)对此微球的粒径大小、粒径分布、表面孔与孔径分布等进行了分析研究 ,探讨了影响其形貌的主要因素 ,并将所得微球用作固定相研究了其分子选择吸附性能。研究表明 ,种子溶胀悬浮聚合法能够制得单分散性较好的、表面带有微孔的分子印迹聚合物微球 ,且该微球呈现出较好的特异吸附性能。     

大包层光纤及预制棒的制备研究

除了通信用途外,光纤还被广泛用于内窥镜等医疗器材、光纤感应器或光纤装饰等其他诸多领域。在某些探测器中需要一种大包层单模光纤作为探头,这种光纤需要特殊的大包层光纤预制棒来拉制,本文即介绍了一种这类光纤预制棒的制备方法,对该方法中的关键工艺技术进行了较为详细的探讨。本文制备得到的大包层单模光纤预制棒可拉制外径在600～2500μM的大包层单模光纤。     

乳液聚合法制备亚微米级分子印迹聚合物微球

以西咪替丁为印迹分子，2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸(AMPS)为功能单体，三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸甲酯(TRIM)为交联剂，采用乳液聚合法制备了亚微米级分子印迹聚合物微球．利用扫描电镜对此聚合物微球的形貌进行了观察，探讨了影响乳液稳定性、粒径大小与分布的主要因素，重点对聚合工艺和配方进行了优化，并将所得的聚合物用作吸附剂研究了其分子识别与选择性能．研究表明，乳液聚合法能够制得单分散性较好的、平均粒径在0．169μm～0．407μm的分子印迹聚合物微球，且该微球对其印迹分子呈现出较好的特异识别与选择性能，当以苯丙氨酸为竞争分子时，分离因子可达1．70．     

G.657光纤的制备及其性能

G.657光纤具有优异的弯曲损耗不敏感性能.被认为是诸如光纤到户(FTTH)等局域网和接入网系统的首选产品,因此,该光纤的研究倍受重视.提出了一种采用全合成工艺制造G.657光纤的方法,详细探讨丫芯层和第一包层区的厚度(a,b)及其折射率差(△1、△2)与光纤性能之间的关系.研究表明,当α的取值在3.5～4.0 μm之间,b的取值在0.5～1.9μm之间,△1的取值在0.0034～0.0045之间,△2的取值在-0.0006～0之间时,可制得满足ITU.T G.657.A标准的光纤;当α的取值在2.8～3.2μm之间,b的取值在0.8～2.1 μm之间,△1的取值在0.0058～0.0072之间,△2的取值在-0.0016～-0.0008之间,可制得满足ITU.T G.657.B标准的光纤.且该光纤在结构上相对简单,无特殊设计的沟、槽、孔,因此制作工艺相对容易、稳定,易于推广和应用.     

弯曲不敏感光纤预制棒的制备研究

G.657光纤具有优异的弯曲损耗不敏感性能,被认为是诸如光纤到户（FTTH）等局域网和接入网系统的首选产品,因此,该光纤及拉制该光纤所需的弯曲不敏感光纤预制棒的研究倍受重视。本文提出了一种采用全合成技术制备弯曲不敏感光纤预制棒的方法,对制备技术中的关键技术进行了分析探讨,对制备得到的光纤预制棒及其拉制的光纤进行了性能测试和评价。研究表明,本文制备得到的光纤预制棒符合弯曲不敏感光纤预制棒的性能要求,其拉制的光纤满足ITU.T G.657.A/B系列光纤标准的要求。     

非零色散位移光纤的改进设计及制造

介绍了一种新颖的非零色散位移光纤结构设计方法及其MCVD+OVD制造工艺,所制备的光纤有效面积达到71 μm2以上.采用关键结构区域精确微扰方法,改进了光纤的色散特性.1550 nm处色散斜率由0.0715 ps/(nm2·km),分别减小至0.0605 ps/(nm2·km),0.0466 ps/(nm2·km),零色散波长由1500 nm附近移至1450 nm以下.测量表明,所得光纤具有优越的光学传输特性、抗弯曲性能和熔接性能,适用于C+L和S+C+L工作波长的大容量高速率长距离密集波分复用系统.光纤关键结构区域精确微扰是改进光纤性能的一种有效方法,该方法不限于MCVD工艺和非零色散位移光纤,对新型光纤的设计和生产具有积极的指导意义.     

分子印迹聚合物微球的制备及应用研究进展

球形分子印迹聚合物具有制备简单、使用方便；分子识别效率高且便于功能设计等优点，近年来成为分子印迹技术领域研究的热点之一。对球形分子印迹聚合物微球的制备及其应用研究进展作了较为详细的介绍。