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AlN陶瓷与可伐合金的活性封接   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用Ag-Ti3活性焊料在真空条件下对AIN陶瓷与可伐合金进行了活性封接。采用SEMEDX,XRD,EBSD方法分析了焊接层的显微组织结构和相组成。测定了焊接力学性能,并对断裂表面进行了组织结构和相分析。在1240K真空条件下焊接性能良好,抗弯强度στ=205.89MPa,剪切强度στ=176.10MPa。  相似文献   
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