排序方式: 共有21条查询结果,搜索用时 31 毫秒
1.
2.
3.
目前制版工艺大多采用超微粒干版进行分步重复照相,然后复印成阴版,再利用阴版制成光刻版。如果能用光刻胶涂在金属版(氧化铁版或铬版)上进行制版,以此代替超微粒干版,就可以节约银盐,降低成本,提高质量,简化工艺。因此,用光刻胶取代超微粒干版的工艺,在国内外受到广泛重视,正在大力研究与试用。在吸取有关兄弟单位经验的基础上,我们在用光刻胶代替超微粒干版工艺上进行了尝试。几个月来,我们先后试制了运算放大器BG305、集成稳压器、AD转换器等几种线性集成电路的阴版、光刻版,图形的最细线条是10微米,经试用,图形完好率和(大长)准性均良好。由此可见,光刻胶用于分步重复照相工艺是可能的。 相似文献
4.
对于4G(第4代移动通信),现网机房及天面资源的紧缺日益成为制约LTE(长期演进)建设的核心因素.针对这一问题,对FDD(频分双工)与TDD(时分双工)混合组网时面临的无线建设问题加以分析,给出一些解决方法. 相似文献
5.
6.
7.
8.
CYD910型存折打印机故障分析南京有线电厂打印机总公司张永庆CYD910型存折打印机是计算机的专用外部输出设备。主要用于打印各类单页或多页票证、银行薄本式存折。该存折打印机为双向逻辑寻址,有24根垂直排列的打印针,打印头结构紧密,维修方便。CYD9... 相似文献
9.
描述了中国频谱分配现状及LTE(长期演进)建设可能面临的干扰,分析了FDD(频分双工)LTE2.1GHz频段基站间干扰、TDD(时分双工)-LTE2.6GHz频段基站间干扰、FDD-LTE1.8GHz频段基站间干扰以及LTE与其他异系统干扰。 相似文献
10.
介绍了定时截尾及序贯截尾两种试验方案的设计原理及应用,在同等条件下,对两种试验方案进行了对比,分析了两种试验方案的优、缺点.结合工作实践及有关标准,提出了选择试验方案的原则. 相似文献