首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   2篇
  免费   2篇
物理学   2篇
无线电   2篇
  2024年   1篇
  2023年   1篇
  2022年   1篇
  2014年   1篇
排序方式: 共有4条查询结果,搜索用时 62 毫秒
1
1.
群签名中成员撤销问题解决方案   总被引:1,自引:0,他引:1  
针对Camenisch-Stadler群签名方案中无法撤销成员的问题,提出了一种有效的群成员撤销方案,该方案可以灵活地增加和撤销群成员。当成员加入时,群主管向其颁发成员证书,其他成员无需更新成员密钥和证书;当成员撤销时,群主管只需将撤销成员的匿名身份更新到撤销列表中,无需更新群密钥和其他成员证书,且签名长度与验证工作量均独立于群成员和已撤销成员的个数。因此,新方案适用于群成员数较多和成员更新比较频繁的群签名。  相似文献   
2.
二维InSe半导体材料由于其优异的电学性能以及适中可调的带隙等优点,引起了研究者的关注.材料中的空位缺陷不仅影响材料的光电学特性,还影响材料的环境稳定性.相比于InSe材料中的其他相, δ-InSe具有更优异的材料性能,然而关于对该材料环境稳定性影响的研究未见报道.本文基于密度泛函理论,系统研究了O2环境下二维δ-InSe材料的稳定性问题.结果表明:1)在O2环境下,完美δ-InSe表面具有良好的惰性和稳定性, O2分子在其表面从物理吸附到解离吸附需要克服1.827 eV的势垒; 2) Se空位(VSe)的存在则会促进δ-InSe的氧化反应,被氧化的过程仅需克服0.044 eV的势垒,说明VSe的存在使δ-InSe在O2环境下的稳定性显著下降,此外被O2分子氧化的δ-InSe单层有利于H2O分子的解离吸附; 3)含有In空位(VIn)的δ-InSe被氧化的速率较慢, O2  相似文献   
3.
采用微波辅助烧结法在空气气氛中以1100℃烧结20 min制备出不同Al2O3掺杂量(摩尔分数0%~6%)的ZnO陶瓷。通过XRD、SEM、霍尔实验、UV-Vis光谱、Raman光谱、PL光谱的表征,研究了Al2O3掺杂量的变化对微波辅助烧结ZnO陶瓷的物相结构、微观组织、电学性能、光学性能的影响。实验结果表明,Al2O3掺杂并没有改变ZnO陶瓷的六方纤锌矿结构,随着Al2O3掺杂量的增加,在ZnO晶界处逐渐形成ZnAl2O4尖晶石相,ZnO晶粒尺寸逐渐减小;微波辅助烧结所制备ZnO陶瓷的室温电阻率和光学带隙随Al2O3掺杂量的增加呈先减小后增加的趋势;当Al2O3掺杂量为摩尔分数4%时,所制备ZnO陶瓷的综合性能最好,样品的室温电阻率为1783Ω·cm,光学带隙为3.04 eV;随...  相似文献   
4.
In Se作为一种典型的二维层状半导体材料,具有优异的电学性能以及适中可调的带隙,在光电器件中表现出诱人的应用前景.然而有研究表明,单硒空位(Vse)体系的In Se易受O2分子影响,造成In Se材料降解,严重影响其在电子器件领域的应用.本文基于In Se降解机理,提出了碲(Te)替位掺杂的方法,用于提升该材料的环境稳定性.利用密度泛函理论对不同体系电子结构、吸附能、能量反应路径等进行分析,发现Te掺杂不仅显著改善缺陷引起的In Se降解问题,同时可消除Vse产生的缺陷态,起到缺陷补偿作用.具体研究结果如下:1) O2分子在Te掺杂In Se表面(In Se-Te)的解离能垒高达2.67 e V,说明其具有较强的抗氧化能力;2) O2分子在In Se-Te表面保持3.87?的距离,吸附能仅有–0.03 e V,表明O2分子物理吸附在其单层表面;3) Te掺杂不仅提升材料抗氧化能力,同时还消除了Vse产生的缺陷态.该研究结果将有助于进一步提升In Se二维材料器件的环境稳定性,推动In Se二维器件...  相似文献   
1
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号