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1.双外延材料选取原则400兆50瓦硅大功率管选用外延平面工艺制作,对外延层提出了要求.首先要求BV_(ceo)较高,这就要求外延层的电阻率高,厚度厚些为好.但同时要求大电流工作时h_(FE)和f_T高,这又要求外延层的电阻率低,厚度薄些为好.这对外延层的要求是一对矛盾.如何调和这对矛盾是外延材料选取的中心环节.根据外延平面工艺的特点,分析BV_(ceo)更多地受表层电阻率的限制,而大电流下工作的h_(FE)和f_T特性主要取决于正对发射区电阻率,如图1斜线部分.所以我们考虑选用n~-/n/n~ 的双外延结构来调和这对矛盾. 相似文献
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