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1.
本文叙述了普通标准丝锥攻丝高韧性金属材料的困难性和存在的问题,针对该种金属材料的机加工特性,对丝锥材料的选择及其结构形式进行了改进设计和试验,并提出了攻丝加工的工艺参数和相应措施.  相似文献   
2.
3.
低温沉积硅薄膜微结构的Raman分析   总被引:2,自引:1,他引:1  
用Raman散射谱研究了以SiH4/H2为气源,用等离子体增强化学气相沉积技术,低温制备的一系列硅薄膜的微结构特征.结果表明:在常规气压和常规功率下,衬底温度在200~500 ℃之间,存在结晶最佳点,400 ℃结晶效果相对最好;在高压高功率下沉积和常压常功率下沉积相比,高压高功率更有利于薄膜晶化;低温短时的高气压高功率沉积,玻璃衬底与铝覆盖的玻璃衬底相比,玻璃上的硅薄膜晶粒尺寸更大,而铝覆盖的玻璃衬底上的硅薄膜的晶化率更高.  相似文献   
4.
薄膜结构性能变化中的"温度临界点"   总被引:8,自引:5,他引:3  
本文先从理论角度说明了薄膜结构性能变化中存在"温度临界点",然后借助于XRD、Raman等测试仪器研究分析了Si薄膜、AZO薄膜在晶化过程、晶粒长大过程以及性能突变中的"温度临界点".结果显示:薄膜结构性能变化中确实存在"温度临界点";在"温度临界点"前后薄膜结构性能的变化规律曲线出现拐点.进而推论:薄膜的结构性能在随温度变化中"温度临界点"可能不止一个.  相似文献   
5.
磁控溅射法制备AZO薄膜的工艺研究   总被引:8,自引:1,他引:7  
用XRD测试仪、分光光度计、四探针等测试仪器,探讨了制备气氛、退火温度和退火环境对AZO薄膜光电性能及结构的影响。结果表明:氧气和氩气的体积流量比为2∶1时,薄膜透光率最高(95.33%);退火有利于薄膜结晶;低于400℃退火时,温度越高薄膜电阻越小,超过400℃后,真空中退火温度再升高电阻变化不大,而空气中退火温度再升高电阻反而变大。  相似文献   
6.
针对车辆行驶在高速公路过程中,传统地图匹配算法存在大量冗余检索时间,且消除垂直误差后仍存在水平误差等问题,设计了一种基于初始定位信息的快速地图匹配算法。该算法首先利用初始定位点到候选路段的距离与夹角确定车辆所行驶道路,然后考虑道路网拓扑结构和连通性,将后续定位点直接投影到初始确定的道路上,减少检索道路的时间;同时为提高算法的精确度,在引用初始定位信息时,通过设置距离阈值剔除定位数据漂移点,并利用一元线性方程建立HP模型以消除水平误差。经理论计算和实际测试表明,该算法利用初始获得的7个连续定位点,能准确检索出车辆正在行驶的道路,节省36%的检索时间,借助HP模型可以减少定位点与车辆实际位置之间45%的投影误差。因此,与连续匹配算法和垂直投影方式相比,该算法具有检索过程简单、检索准确率高、误差消除大的优势。  相似文献   
7.
常规退火与光退火固相晶化的对比   总被引:5,自引:2,他引:3  
为研究传统炉子退火与光退火固相晶化的不同特点,用石英玻璃作衬底,在室温、350℃和450℃下用PECVD法直接沉积非晶硅(a-Si:H)薄膜,把沉积的样品分别在850℃下用传统炉子退火3h、用光快速热处理(RTP)5min,然后用Raman、XRD和SEM分析对比,发现传统炉子退火后的晶粒分布不均匀,光退火后的晶粒分布均匀.XRD分析发现两种方法晶粒尺寸均为30nm左右.  相似文献   
8.
直流反应磁控溅射法制备锐钛矿TiO2薄膜   总被引:2,自引:0,他引:2  
采用直流反应磁控溅射的方法,溅射高纯钛靶在玻璃衬底上制备了TiO2薄膜。用XRD测试了TiO2薄膜的结构,研究了工艺因素中衬底温度、溅射气压、氧氩气体流量比和退火温度对薄膜结构的影响。实验结果表明:衬底温度高于200℃、溅射气压不高于0.7Pa、氧氩流量比为1/4、退火温度为650℃时,锐钛矿TiO2薄膜更容易结晶。  相似文献   
9.
视频监控技术已经在油田安全监管中得到广泛应用,而良好的维护管理工作是保证视频监控系统稳定可靠运行的重要手段。文中首先介绍了视频监控系统的组成结构,然后阐述了视频监控的特点,并对维护管理工作存在的问题进行详细分析,最后提出了加强视频监控系统维护管理的几项措施。  相似文献   
10.
通过射频等离子体增强化学气相沉积,在高气压条件下制备了微晶硅薄膜,并用拉曼光谱仪(Ram an)、扫描电镜(SEM)研究了微晶硅薄膜的微观结构。发现沉积速率在5Torr左右出现极大值,薄膜的晶化率随着沉积气压的升高而降低,薄膜表面的晶粒或团簇随着沉积气压的下降而增大,薄膜的粗糙度随着沉积气压的升高而降低。  相似文献   
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