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采用扫描电镜的ECP技术分析人工合成金刚石晶体中的晶体缺陷 总被引:1,自引:1,他引:0
本文应用扫描电镜的ECP技术对人造金刚石晶体表面的位错密度,进行了实验分析,并同位错蚀坑分析技术的测量结果进行了比较,结果表明,如采用临界束流强度作为描述ECP本征衬度的参数,则它同位错密度间存在明显定量的数学关系,因此上述临界束流强度可用来评价晶体中位错密度的相对变化。 相似文献
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蚀坑分析技术是从金相分析中所发展起来的一种结晶学分析技术。由于扫描电镜比光学显微镜具有大得多的焦深和高得多的分辨率,更能充分发挥蚀坑分析术进行结晶学定量分析的优点,故这种分析技术已成为一种扫描电镜的专门技术,称为扫描电镜的蚀坑分析术。在本工作选用了电弧熔炼钨的解理断口作为研究对象,这是因为在体心立方金属中,钨是最典型的脆性解理 相似文献
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声发射扫描电镜进展及其物理基础 总被引:3,自引:3,他引:0
本文评述了场发射扫描电镜的进展及其食品技术的物理基础。基于同扫描电镜成像过程有关的物理概念出发,还推导了有关改进食品设计和功能所引用的计算公式。 相似文献
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分辨率是显微镜最重要性能指标之一。作为表面形态观察的扫描电镜,长期以来人们所追求目标之一是如何使它的图象分辨率达到透射电镜分辨率的相当水平。本文是从扫描电镜的成象原理出发,分析了各种影响二次电子象分辨率的因素,并考虑了统计涨落噪音的影响,推导得如下基本关系: 相似文献
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电子通道花样分析技术的进展 总被引:1,自引:0,他引:1
本文对电子通道花样分析技术的原理和方法进行了评述。并讨论了在材料科学应用中选区电子通道花样分析技术的要点和展望。 相似文献
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本文讨论了改善场发射扫描电镜分辨本领的原理。分析结果表明 ,仪器的分辨本领主要依赖于物镜的球像差系数 Cs。如果等效球像差系数能降低到 0 .1× 10 -2 cm的水平 ,则二次电子像的分辨本领为 0 .3 2 2 nm(当扫描电子束的加速电压 VA=3 0 k V)。此外 ,在 Cs=0和扫描电子束的半开角 α=5× 10 -2 rad,本文估计场发射扫描电镜的极限分辨本领可望达到 0 .178nm(当 VA=3 0 k V)。 相似文献
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第五届全国材料科学中电子显微学会议和第七届全国化工纺织电子显微学会议简讯“第五届全国材料科学中电子显微学会议”和“第七届全国化工纺织电子显微学会议”于1993年11月22日至27日在福州市召开,来自全国46个单位的73名代表出席了会议。这次会议的论文... 相似文献