非线性干涉滤光片开关特性及逻辑功能

应用干涉滤光片作为一种光学双稳器件,演示了光学逻辑开关功能。     

直流反应磁控溅射制备掺铟ZnO透明导电薄膜的研究

本文介绍了掺铟ZnO透明导电膜的制备工艺.并应用半导体物理理论分析了薄膜的导电机理,用Drude理论建立了物理模型,分析与计算了薄膜从可见到红外光波段的光学性能,结果表明,理论计算与实测值两者符合得较好.     

薄膜光学镀层

在过去的十年中,光学镀层领域取得了稳步的进展,并得到了某些惊人的结果。薄膜材料和工艺技术而不是薄膜设计支配了这个领域的发展。与潮气吸附有关的主要问题并没有完全解决,但离子辅助的沉积技术给人们以希望的曙光。     

真空紫外反射镜的制备及其测量

本文研究了真空紫外(300～2000?)反射膜的反射特性,这些特性包括反射率和材料种类、膜厚、制备参数、人射角及人射波长的关系。介绍了真空紫外反射率的测量装置,并给出了测量结果及误差分析。     

从薄膜波导传播衰减的角度研究光学薄膜的损耗:(Ⅱ)实验分析

本文从实验的角度介绍从薄膜导波传播衰减研究光学薄膜损耗的方法,并以一些低损耗的光学薄膜样品的测量结果说明这种方法对损耗研究的灵敏程度及其优越性.     

光学薄膜合成的Sossi方法

一、引言近年来Sossi提出了一种光学薄膜设计的综合分析方法。这个方法考虑垂直入射的无吸收薄膜系统,对于预先指定的任意目标反射率曲线,可以设计出达到要求的薄膜结构。方法使用方便,有很大的普适性,因此受到国内外光学薄膜专家们的重视。鉴于国内这方面的资料不多,而且又涉及不少数学推导,为了便于大家了解这方面的工     

国外光学薄膜技术发展概况

在美国进修期间曾参加了Macleod教授领导的薄膜实验室的一部分研究工作,有机会参观了一些公司和学校,也参加了二次全国性的学术会议,认识了一些在薄膜界研究工作十分活跃的学者、专家,对国外光学薄膜技术的发展有了一个初步的印象。下面就我的认识谈一谈肤浅的看法。首先,在国外,光学薄膜的商品生产、发展研究和偏重于基础性的理论研究这三个层次是可以感觉得到的。目前光谱范围从紫外1200(?)到红外5.5μm甚至更远,各类滤光片已有系列的商品生产;光学薄膜的制造基本上摆脱了依赖手艺、技巧和碰运气的状态,已进入了工业规模的生产。参观Baush＆Lomb公司的     

离子轰击对蒸发薄膜性质的影响

用一个冷阴极离子枪产生的氧离子轰击淀积过程中的薄膜表面.研究了离子轰击对薄膜聚集密度和潮气吸附的影响.实验表明,经离子轰击的ZrO_2,TiO_2和SiO_2膜,用石英晶体微量天平测得的聚集密度增加到0.9以上;用这些材料制成的干涉滤光片,基于滤光片暴露于潮湿气氛中的潮气吸附,测得峰值透射波长的漂移减小了大约2/3.这说明利用离子辅助技术有可能制备优良光学性能和机械性质的薄膜.     

COIL用变形反射镜介质反射膜

 报道COIL激光用变形反射镜的介质反射多层膜实验。在真空镀膜机内制备了膜系Sub/Ag(SiO₂/HfO₂)⁴/air和Sub/Ag(YbF₃/ZnS)³/air, 反射率分别为99.90%和99.87%。在经历109次循环后变形镜物理特性无变化。研究了COIL激光辐射下热畸变和损伤特性。分别在功率密度为1.52kW/cm²和1.18kW/cm²的COIL激光辐照下,这两种膜系的变形镜波前变化为0.37l 和0.54l 。因此对于变形镜1kW/cm²激光功率密度是安全可靠的。     

DF化学激光窗口低损耗增透膜

 表述了DF激光波段采CaF₂和硅窗口减反射膜系的结果。分析了设计多层AR膜的方法并给出用ZnSe/YbF₃材料组合的双层和五层AR膜系。计算了各种膜系的理论性能。研究了膜层淀积工艺技术,对于CaF₂和硅窗口,在DF激光波段实验透过率分别为99.54%和99.8%,镀AR膜CaF₂窗口能承受4.3kW/cm²的连续波DF激光辐射。