低能电子束辅助蒸镀的初步实验

自从六十年代中期用断面电子显微术揭示了薄膜的微结构以来,薄膜的各种特性,光学的,磁学的,电学的,超导的,机械的,以及各种薄膜现象,包括薄膜的稳定性,追根溯源,便找到了说明的根由和改进的出发点。一种自然的趋势,是用某种物理手段来影响薄膜的成核、成长过程,改变薄膜的结构,从而使薄膜具有某些预期的特性。     

任意折射率的均匀混合膜的获得——实用气相混合蒸镀技术之一

自然界拥有数不清的物质,然而能提供给薄膜工作者使用的材料却很寥寥.目前常用的膜料只不过二、三十种,折射率值的匮乏常使膜系设计人员感到困惑.为了弥补这个缺陷,人们做过不少尝试.     

激光与介质薄膜作用过程的等离子体诊断

本文对YAG激光诱导介质薄膜产生的等离子体采用Mach-Zehnder干涉仪及光延迟装置进行时间序列分辨多幅干涉记录,并对序列干涉图进行电子密度及等离子体冲击波速度的计算.首次得到脉宽为15ns的1.06μm激光与介质薄膜作用在150ns以内的有关结果.     

激光薄膜偏振片:单色偏振膜设计

本文提出一种独特的求解平板型偏振膜系工作点的计算方法。利用三层对称组合膜的特性,解一个或两个超越方程,便确定膜系各层的厚度。如此膜系对预定波长的P光,透射率为100%,对S光的反射率可按需要程度逼近100%。这种方法的特点是,精度高,概念清晰,能够求解任何两种高低折射率薄膜组合,能够设计各种波长的偏振片。根据这种设计方法,用电子计算机计算了一系列由常用膜料组成的偏振片,给出了计算结果。     

各向同性介质反射镜理论

本文从理论上指出研制能满足“各向同性”条件的介质反射镜的可能性。这种反射镜由二元和三元膜系组成。膜层折射率的数值,原则上是现实的。膜系的层数,按一般镀制工艺也是可以实现的。研究了选用偶数层或奇数层的二元膜系基片对制作各向同性反射镜的影响。     

一些氧化物和氟化物薄膜材料的折射率

用光谱反射率计测量了下列光学薄膜材料在250～2000毫微米波段的折射率;Ta2O5、HfO2、Y2O3、La2Os、ZrO2、CeO2、CeF3、LaF3,NdF3、MgF2。     

介质薄膜不同方向折射率的计算

本文应用介电椭球理论,推导出计算介质薄膜不同方向折射率的新公式.     

访西德扎记(下)

在PMA3的基础上,L-H公司为A700Q装备了"过程光电光度计"(process photometer)OMS2000,使薄膜的蒸镀过程进一步程序化.在每一层膜蒸镀之前都需预先调整设备参数,例如放大倍数,膜层的预定厚度,波长等等,可以用手进行调节,也可以通过遥控系统自动输入.用微型计算机对待镀膜系预先进行计算,以便确定在每一层膜开始蒸镀之前设备参数应该调节到怎样的数值,并将数据自动输入OMS2000.     

光学薄膜的气相混合蒸镀

本文论述气相混合蒸镀的实验方法,介绍了三种控制程序,给出了两种宽带增透膜的实验镀制结果.实验表明,气相混合蒸镀技术具有极大的应用潜力.