CCD应用技术的新进展

在过去二十年中,CCD应用技术显示了突出的功效。本文综述了CCD应用技术的最新水平,包括成象传感、存贮器和信号处理。描述了固态摄象器件的重要应用领域,特别是国内在CCD应用技术方面的最新进展,同时也展示了未来的可能应用领域。     

光电技术在工业检测中的应用

光学检测在恶劣的工作环境下显示了突出的优点。本文综述了工业光学检测的一般途径,详细讨论了线材、板材、三维图象等具体工业问题采用的特殊光学检测方法,及其今后可能的发展和应用领域。     

恶劣工业环境下的光学检测

在恶劣工业环境下光学检测显示了突出的优点。本文综述了工业光学检测的一般途径,详细讨论了线材、板材、三维图象等具体工业问题采用的特殊光学检测方法,及其今后可能的发展和应用领域。     

用于在线测厚和探伤的激光超声系统

当金属表面受到一个激光短脉冲的照射时,由于辐射压力、热弹性作用和表面蒸发或离解产生的等离子体的作用,会使照射的部位形成一个声源,从而产生一个垂直于表面向内传播的超声脉冲。此脉冲的幅度和宽度与激光脉冲的能量密度和脉宽有关。该超声脉冲在材料内部来回反射将给出材料的厚     

用Fabry-Perot干涉仪检测激光超声以实现钢板测厚

本文介绍了一种用激光产生超声并用另一激光及共焦Fabry-Perot干涉仪检测超声的钢板测厚系统,详细讨论了作为接收超声的Fabry-Perot干涉仪的检测灵敏度和信号检测及处理的方法,并给出了一些实验结果.     

激光超声测厚系统的实验研究＊

本文介绍了作者研制的激光超声测厚系统的基本原理和部分实验结果,讨论了该系统用于无损测厚的几个问题。     

用扫描干涉法测定光电系统高频响应

提出了用扫描Fabry-Perot干涉仪对光电系统10～500MHz的频率响应进行测试的方法。用信号半值宽度τ_m来估计光电系统的高频截止频率fc,讨论了fc=1/1.7τ_m的理论依据和适用范围。本方法的特点是无需高频光源和高频信号源,即可进行光电系统的高频响应测试。     

N_2和NH_3退火对铪铝氧栅介质C-V特性的影响

采用原子层淀积(ALD)的方法在Si(100)衬底上制备了铪铝氧(HfAlO)高介电常数介质,并研究了N2和NH3退火对于介质薄膜的影响。改变原子层淀积的工艺,制备了三组含有不同Al∶Hf原子比的铪铝氧(HfAlO)高介电常数介质。电容电压特性(C-V)测试表明,薄膜的积累电容密度随着薄膜中Al∶Hf原子比的减少而增加。实验表明,用N2和NH3对样品进行淀积后退火,可以减小等效电容厚度(CET)、降低固定正电荷密度以及减小滞回电压,从而有效地提高了介质薄膜的电学特性。