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射频磁控溅射制备声表面波器件用ZnO薄膜 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了采用射频磁控溅射法在SiO2/Si衬底上制备ZnO薄膜工艺中溅射功率、氧氩比(V(O2)/V(Ar))及衬底温度对ZnO薄膜结构的影响。利用X-射线衍射(XRD)和扫描力显微镜(AFM)对薄膜进行结构性能分析,表明其结构性能随工艺参数变化的规律。利用优化的工艺条件:射频功率60 W、V(O2)/V(Ar)为0.55和衬底温度350℃,在DLC/Si衬底上制备了ZnO薄膜,制作加工成声表面波滤波器件,测试分析了频率响应特性,中心频率为596.5 MHz。 相似文献
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采用脉冲激光沉积法制备了NiCo2S4薄膜,利用恒流充放电和循环伏安测试研究了NiCo2S4薄膜作为锂离子电池负极材料的电化学性能和充放电机理。采用高分辨电子显微镜和选区电子衍射(TEM&SAED)表征了NiCo2S4薄膜首次循环过程中的组成与结构变化。恒流充放电测试结果显示NiCo2S4薄膜在3 μA·cm-2的放电电流下,0~3 V(vs Li+/Li)范围内,薄膜的首次放电容量为698 mAh·g-1,经过200次循环之后的放电容量为365 mAh·g-1;在循环伏安测试中得到了分步反应的可逆氧化还原峰。TEM和SAED分析结果揭示了NiCo2S4薄膜与Li的电化学反应机理:首次放电过程中NiCo2S4与Li发生转化反应生成了Li2S、Ni和Co,充电后生成了CoS和NiS复合薄膜。后续循环为CoS和NiS复合薄膜的可逆分解与形成。研究表明NiCo2S4是一种有潜在应用价值的锂离子电池负极材料。 相似文献
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掺杂可以改变锆钛酸铅系铁电陶瓷的性能。着重对掺 La3+、Mn2+对 PZT 陶瓷结构与性能的影响作了一些研究和探讨,通过对掺两种添加物的样品的介电、铁电性能的比较发现:掺 La3+可以增大剩余极化值和损耗;掺杂 Mn2+可以降低损耗;同时加入 La3+、Mn2+可以调整 PZT 性能得到理想的效果:2Pr 为 80×10–6/cm2,tg? 为 0.6×10–2。 相似文献
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研究了不同添加量的ZnO-B2 O3 -SiO2 (ZBS)玻璃作为烧结助剂对硅酸锌陶瓷的结构及微波介电性能的影响.研究结果表明:添加ZnO-B2 O3-SiO2玻璃的陶瓷烧结后其主晶相仍呈硅锌矿结构,并且硅酸锌陶瓷的烧结温度从1300℃降低到900℃.随着玻璃添加量的增加,陶瓷的介电常数(εr)和品质因数(Qf)呈逐渐降低的趋势,当玻璃添加量为20 wt;时,900℃保温2h所制备的陶瓷具有较优良的微波介电性能:εr=6.85,Qf =31690 GHz,τf=- 28×10-6/℃,在低温共烧陶瓷领域有着潜在的应用价值. 相似文献
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PZT/LaNiO3/MgO多层结构制备及性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
利用激光脉冲法在MgO衬底上沉积制备LaNiO3(LNO)薄膜作为底电极材料,其上利用射频磁控溅射制备了锆钛酸铅(PZT)铁电薄膜。试验分析了LaNiO3表面结构和形貌,采用快速退火法在不同温度下对样品进行了热处理,发现在500℃即得到(110)取向、晶化完全的PZT薄膜。在5 V测试电压下发现650℃下晶化的样品表现出非常优异的介电和铁电性能,介电常数(rε,)和损耗(tanδ)分别达570和0.05,漏电流在10-9A量级,电滞回线完全饱和且形状对称,剩余极化强度(Pr)和矫顽场(Ec)分别为35.8μC/cm2和76.3 kV/cm。 相似文献
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以3-甲氧基水杨醛与乙醇胺缩合得到席夫碱化合物hmmpH2(hmmpH2=2-[(2-羟乙基亚氨基)甲基]-6-甲氧基苯酚),以hmmpH2为配体合成了配合物[Fe2(hmmp)2(hmmpH)2]·1.5CH3CN·0.5H2O(1)和[Co2Na(hmmp)2(N3)2(CH3O)(CH3OH)2](2)。以3,5-二溴水杨醛与乙醇胺缩合得到化合物hmdbrpH2(hmdbrpH2=2-[(2-羟乙基亚氨基)甲基]-4,6-二溴苯酚),以hmdbrpH2为配体合成了一个混价三核配合物[Mn(Ⅱ)Mn(Ⅲ)2(hmdbrp)2(O2CPh)4(CH3OH)2]·2CH3CN·2CH3OH(3)(HO2CPh为苯甲酸)。对配合物分别进行了元素分析、X射线单晶衍射分析,还对1和3进行了磁性研究。单晶结构分析表明配合物1中2个六配位的Fe(Ⅲ)离子通过2个醇羟基氧原子相连形成二聚体结构,配合物2中Co(Ⅲ)也为六配位,通过2个甲醇中氧原子相连形成双核结构,配合物3为一混价三核锰结构,3个Mn离子呈线性排列。磁性测试表明配合物1中Fe(Ⅲ)离子之间存在反铁磁相互作用,配合物3的三核锰单元内Mn(Ⅱ)、Mn(Ⅲ)离子之间存在反铁磁相互作用。 相似文献