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1.
We study the two samples of AlInGaN,i.e.,1-μm Gan grown at 1030℃ on the buffer and followed by a 0.6μm-thick epilayer of AlInGaN under the low pressure of 76 Torr and the AlInGaN layer deposited diectly on the buffer layer without the high-temperature GaN layer,by temperature-dependent photoluminescence(PL) spectroscopy and picosecond time-resolved photoluminescence(TRPL) spectroscopy.The TRPL signals of both the samples were fitted well as a stretched exponential decay at all temperatures,indicating significant disorder in the material.We attribute the disorder to nanoscale quantum dots or discs of high indium concentration.Temperature dependence of dispersive exponent β shows that the stretched exponential decay of the two samples comes from dfferent mechanisms.The different depths of the localization potential account for the difference,which is illustrated by the results of temperature dependence of radiative recombination lifetime and PL peak energy. 相似文献
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In this paper,we use the a-plane InGaN interlayer to improve the property of a-plane GaN.Based on the a-InGaN interlayer,a template exhibits that a regular,porous structure,which acts as a compliant effect,can be obtained to release the strain caused by the lattice and thermal mismatch between a-GaN and r-sapphire.We find that the thickness of InGaN has a great influence on the growth of a-GaN.The surface morphology and crystalline quality both are first improved and then deteriorated with increasing the thickness of the InGaN interlayer.When the InGaN thickness exceeds a critical point,the a-GaN epilayer peels off in the process of cooling down to room temperature.This is an attractive way of lifting off a-GaN films from the sapphire substrate. 相似文献
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本文对不同条件下扩铜HB、SI-LEC体GaAs和VPE、LPE-GaAs样品与铜相关的光致发光谱(1.36 eVPL带,束缚激子Co(1.5026eV)和F_0(1.4832eV)等)的行为进行了全面、系统的研究,并对前人的结果做了评述。首次报道了扩铜条件及其扩铜后的淬火过程和热处理条件对PL谱线的影响,其主要结果如下:(1)在Ga-GaAs溶液中扩铜,仅能观察到 相似文献
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