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利用0.5μm GaAs PHEMT技术研究了适用于单片集成GaAs PIN/PHEMT光接收机前端的关键工艺,解决了台面工艺和PHEMT平面工艺的兼容性问题,包括不同浓度磷酸系腐蚀液对台面腐蚀均匀性的影响、台面与平面共有金属化工艺对光刻技术的要求。结果表明,工艺技术完全满足单片设计要求,研制得到的单片集成光接收机前端在输入1Gb/s和2.5Gb/s非归零(NRZ)伪随机二进制序列(PRBS)调制的光信号下得到较为清晰的输出眼图。 相似文献
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本文采取在标样和试样中加入绝对量一致的内标元素控制的ICP-AES法,对合金中的多元组分进行同时测定。通过对Ag-Mg-Ni合金中Mg、Ni的分析研究和试样测定,获得较好的准确度、精密度,相对误差Mg<±0.5%,Ni<±3.0%,相对标准偏差均小于0.5%,能满足对合金分析的要求。适当调整称样量及待测溶液定容体积,可扩大测定范围。采用绝对量内标控制,大大减小了由称量和稀释溶液体积带入的误差,从而提高了分析的准确度和精密度 相似文献
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