靶面激光光斑尺寸原位测量的研究

提供了一种简便易行的靶面激光光斑尺寸原位测量的方法。从高斯光束的横向光强分布特性出发,建立了激光烧蚀斑半径与辐照激光能量、光斑尺寸、烧蚀阈值间的关系式,模拟分析发现辐照激光光斑尺寸对烧蚀斑半径随辐照能量变化曲线有较大影响。对于脉宽为2 ms,波长为1064 nm的激光,实验测量了不同能量激光辐照下相纸烧蚀斑半径,并用推导出的关系式拟合测量数据,获得了靶面处光斑尺寸和样品烧蚀阈值。同时,也测量了不同位置处的光斑尺寸和样品烧蚀阈值,对高斯光束束腰位置和样品烧蚀阈值的光斑尺寸效应进行了验证。研究结果表明该技术结果可靠,简单高效。该技术可以为高能激光与固体物质相互作用的基础研究和激光加工等应用领域中实现简单方便地测量靶面光斑尺寸提供帮助。     

如何降低光纤熔接损耗

1前言 光缆接续是光缆施工中工程大和技术要求复杂的一道工序，其质量好坏直接影响线路的传输质量和寿命。努力降低光纤接头处的熔接损耗，就可增加光纤中继放大传输距离或增加光缆富余度，因而降低光纤的熔接损耗具有重要的实际意义。     

企业标准化(上)

企业（公司）是市场经济的主体，也是标准化工作的主体。企业标准化是国家或产业标准化事业的基本组成部分，也是国家或产业标准化的基础。随着经济的发展、技术的创新、信息化进程的推进以及市场竞争的加剧，企业标准化同整个标准化事业一样，从生产技术领域扩展到企业管理领域和服务领域，从以硬件为主的标准化对象扩展到硬件和软件相结合的标准化对象，从单一标准化形式扩展到多种标准化形式，无论是思维方式和手段上，还是工作目标和方法上，都有不同程度的创新与提高。     

淬火固态再结晶工艺研究

本文在分析淬火固态再结晶(CR)工艺生长碲镉汞(MCT)晶体原理基础上,研究了 CR 工艺生长 MCT 晶体有关步骤,改进了合成、淬火及再结晶工艺。合成时采用混合温度分布方式简化了升温及合成炉摆动工艺;淬火时在反应管内加石墨塞子改善了晶体组分均匀性;再结晶时采用温度梯度退火提高了再结晶效率。对改进工艺生长的 MCT(x=0.2)晶体组分均匀性、结构完整性、光学和电学性质进行了分析,结果表明晶体质量有明显提高。     

精密光纤功率计的设计

本文介绍了一种光纤光功率计的电路原理及单片机数据处理程序框图。     

超大规模集成电路中任意形状掩模边缘附近的离子分布

离子注入过程中,注入离子在掩模边缘附近的分布决定MOS晶体管漏极区域处的电场强度,计算了70keV硼离子注入硅样品中不同掩模边缘离子密度等线,考虑了四阶矩下的杂质深度分布(无掩模情况)。合理选择掩模蚀刻工艺,可获得均匀性,高抗噪声度的器件中。同时也指出了太薄掩模材料对注入离子分布的影响。     

延迟和相关效应对Ne原子2p53s1,3P10-2p6 1S0跃迁的影响

利用多组态Dirac-Fock(MCDF)方法,系统地研究了延迟和相关效应对中性Ne原子2p53s1,3P01-2p61S0电偶极共振和复合跃迁的能量以及跃迁几率(寿命)的影响,给出了相应的跃迁能和辐射寿命,并与最新的实验观测和其他理论计算结果进行了比较.     

一般线性模型下方差最小范数二次无偏估计的稳健性

本文给出了一般线性模型下,由最小二乘得到的方差估计与最小范数二次无偏估计相等的充分必要条件,并且当Gauss-Markov估计与最小二乘估计相等时,可以得到一个简单的等价条件。     

工程——工程学科研究进展

本年度进行的工程设计是为保证产品在加工、装配、试验过程中能满足设计要求而进行的辅助产品的设计。开展了微细深孔钻削装置设计、装配装置设计、真空系统改进设计及振动试验夹具设计等，这些辅助产品对保证产品质量，按时地完成生产任务起到了重要作用。     

采用国际标准

经济发展的国际化趋势，把标准的国际化问题提到了每个国家的日程。国际贸易的发展，尤其是世界贸易组织的建立，成为标准国际化的强大推进器。在1979年签订的《贸易技术壁垒协议》中规定：“在一切需要有技术法规和标准的地方，当已经有国际标准或相应的国际标准即将制定出来时，参加国均应以这些国际的技术法规或标准的有关部分，作为制定本国技术法规和标准的依据”。其目的是为了克服因各国标准的不一致而造成的技术障碍。这一国际准则的确立，不仅促使国际标准化活动出现了空前活跃的局面，而且使全世界都认识到采用国际标准是商品进入国际市场的有力竞争武器，并成为一种世界潮流。