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纳米胶体射流是抛光加工半导体材料的新型工艺方法,其中射流抛光液的分散稳定性对抛光效果有较大影响.以直径为10 nm的CeO2为磨料,选取乙醇体积分数、聚乙烯吡络烷酮(PVP)质量分数和抛光液pH值为实验因素,利用图像灰度值法表征抛光液的分散稳定性,分析抛光液各组成参数对其分散稳定性的影响规律.利用Box-Behnken响应面法对纳米CeO2胶体抛光液的分散稳定性条件进行优化.研究结果表明,纳米CeO2胶体抛光液的最优分散条件为乙醇体积分数61％、PVP质量分数3％、抛光液pH值为10.在此最优条件下,制备的纳米胶体射流抛光液图像的灰度值为183,与响应面模型预测值非常吻合,且抛光液的分散性能良好且悬浮稳定. 相似文献
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