电化学共沉积氧化锌-氧化铜薄膜法显现潜指纹

发展了一种新的电化学共沉积氧化锌-氧化铜薄膜法来显现多种导电基底(不锈钢片、铝片、铜片、锌片、5角和1元的硬币)上的潜指纹的方法。该方法的原理是基于导电基底上潜指纹的嵴线区残留物具有电化学惰性,电化学共沉积反应选择性地发生在潜指纹的谷线区和没有潜指纹覆盖的导电基底上,这一过程导致基底上潜指纹的嵴线区和谷线区之间产生显著的颜色差异,最后得到具有较高对比度的潜指纹反像。从场发射电子扫描电镜图像和元素分析的结果确认,氧化锌-氧化铜薄膜主要沉积到了潜指纹的谷线区,而嵴线区上的沉积物较少。通过氧化锌-氧化铜薄膜的共沉积,导电基底上的潜指纹显现图像能够提供清晰的二级水平信息和部分三级水平信息。该方法具有操作简便、显现效率高、适用客体广的特点,是一种具有很好的实际应用前景的潜指纹显现方法。     

基于MPLC提高空间光-单模光纤耦合效率技术研究

在空间激光通信实际应用过程中，受到对准误差的影响，单模光纤耦合效率低，需要对其进行精确校正。在理想条件下，首先分析不存在对准误差及其他影响因素时平面波-单模光纤耦合效率及高斯光-单模光纤耦合效率模型，然后分别研究了光纤横向偏移和纵向偏移两种对准误差对单模光纤耦合效率的影响。在此基础上，提出了一种基于多平面光转换（MPLC）技术提高单模光纤耦合效率的方法，数值仿真了使用MPLC将平面波转化为高斯光前后及校正对准误差前后耦合效率的变化情况。仿真结果表明：使用MPLC将平面波转换为与高斯光高度相似的光束后，耦合效率会比平面波直接耦合进入单模光纤提高18.54%；使用MPLC分别校正横向偏移和纵向偏移后，耦合效率均提升至99%以上。该方法突破了空间光与单模光模式不匹配的限制，可以有效校正对准偏移误差，对于提高空间光到单模光纤的耦合效率具有一定的理论意义。