数字滤波抗干扰技术在A/D转换中的应用

给出了前向通道中抑制干扰的几种软件滤波措施,分析了这些措施的优点和不足,提出了一种由AD7705内置的数字滤波器抑制干扰的方法。该滤波器置于A/D转换环节中,可灵活地编程设置截断频率及陷波位置,简化了前向通道的设计。通过应用表明,对频率高于300Hz的信号衰减80dB以上,对 50Hz倍频的工频干扰信号衰减180dB以上,有效地抑制了高频及工频干扰。     

小孔阵列衍射特性与应用

以单色标量波衍射理论为基础,研究了均匀平面波从不同角度入射小孔阵列的衍射特性。运用单孔衍射理论,同时考虑相邻小孔间衍射光强的相互影响,建立了小孔阵列衍射的理论模型和光强分布的数值积分式,小孔为硬边小孔。利用Matlab对500 nm波长的平面波入射微小方孔阵列衍射图样进行了计算机仿真,得到了不同几何参量下平面波从不同角度入射时的衍射图样的一维和二维光强分布图,并将仿真结果用于微型数字式太阳敏感器的光学系统中的结构参量设计和图像处理中的参量确定。太阳敏感器的成像实验结果表明,小孔阵列衍射光强分布图的仿真结果正确、太阳敏感器光学系统参量设计合理。小孔阵列衍射理论为太阳敏感器的光学系统设计和图像处理提供了可靠的理论基础。     

用于5英寸硅片的掩模对准技术

在新兴的集成电路技术中技术革新搞得很快,而且经济效果也很显著。由于硅片尺寸的增大以及图形尺寸的微细化引起了集成度的不断提高,这就提出了降低器件成本的问题,当然这些革新成果必然为各厂家所注目。我们在本文中介绍一下:卡诺PLA—500FA型掩模对准仪,该仪器能很经济地制做2μ宽线条的器件。在这种仪器中,接近式、软接触式及接触式光刻可用一个开关来转换,而且可以根据图形所要求的分辨率来选择光刻形式。另外,由于仪器附有远紫     

在柔性衬底上制备的非晶硅薄膜力学性能研究

以聚酰亚胺膜作为柔性衬底材料,用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术制备氢化非晶硅薄膜.喇曼(Raman)光谱分析表明适当温度下的退火工艺使氢化非晶硅薄膜具有均匀的微硅晶体结构和良好的表面质量.在扫描电子显微镜下进行的力学性能实验研究表明,由于非晶硅薄膜和聚酰亚胺膜之间较强的相互作用,使非晶硅薄膜具有优异的柔韧力学性能,可以在5mm以上的曲率半径下保持良好的弹性变形能力,在受拉伸情况下可以达到1.7%的弹性形变范围,抗拉伸强度达到1.45GPa,完全能够贴附于一般规则和不规则曲面并承受较大的应力作用.     

掩模对准仪的新动向

1.前言自从半导体平面制造技术发展以来,主要使用的是接触式掩模对准仪。集成电路从大规模发展到超大规模,其集成度迅速提高。而用于制做这些器件的光学刻蚀技术也渐渐到了极限,这就促进了远紫外、软X线和电子束光刻技术的研制。另外,在提高集成度方面,对准精度有着很大的影响。为了提高对准精度,减轻劳动强度,就需要研制精度更高的自动对准装置。本文以制做2μ宽线条为前提,讨论一下近来用于远紫外及紫外曝光对准范围的令人注目的对准方法及自动对准装置。     

掩模—硅片光电自动对准

本文文绍了几种实现掩模—硅片精确定位的光电自动对准方法及系统。着重讨论了它们的原理、特点及光电信号的转换,并列表说明了国内外部分自动光刻设备中自动对准装置的主要性能指标。     

谈谈卡诺自动对准图案

我们来谈谈卡诺PLA—500FA(掩模自动对准仪)中,自动对准图案的安排与形状。 1.掩模上的对准图案(简记为“M”) 在掩模的左右两侧各安排一个如图1所示的图案(其安排下面将叙述)。     

卡诺PLA—500FA、PLA—500F型接近式掩模对准仪

一、激光扫描自动对准仪近年来,半导体器件研制中要求硅片的直径越来越大。卡诺公司的接近式掩模对准仪,在满足这种要求方面迈出了第一步。卡诺PLA—500FA以及500F型机就是一种用来制作φ5英寸硅片的接近式掩模对准仪。其中PLA—500FA型是一种正规的可以批量生产的装置,它具有采用激光的世界上最早的掩模全自动对准机构。卡诺的接近式掩模对准仪现已付诸使用的有PLA—300F等类型。大多数半导体制造厂都赞扬这些对准仪具有下述特征:     

利用纤维红外吸收特性的皮棉杂质检测新方法

为有效检测出与棉纤维形态、颜色极其相似的异性纤维杂质,根据异性纤维与棉纤维近红外吸收特性的差别。提出近红外光谱成像方法检测皮棉异性纤维杂质．该方法分析近红外波段中异性纤维与棉纤维吸收特性差异随波长变化规律,确定了区分棉纤维与多种异性纤维的最佳波段的范围,建立红外光谱成像系统,将异性纤维近红外吸收特性转化为近红外图像中异性纤维图像特征,利用自适应图像增强和二值化图像处理,从皮棉背景中提取异性纤维．实验结果表明,该方法获取的异性纤维图像特征明显,检测结果与实际相符,此方法可有效识别皮棉中异性纤维杂质．     

多路CCD成像非一致性动态校正新方法

在多路CCD成像结构中,由于影响各路成像参量不一致的因素较多,常规校正方法变得复杂和困难。在分析多路CCD成像机理的基础上,提出了一种利用小波变换的多路CCD成像非一致性动态校正新方法,即在分析同一目标成像中异路图像像元特性差异的基础上,利用小波变换构筑校正因子对后续的CCD捕获图像进行校正。为满足实时校正的需要,研究了动态条件下成像校正的时效性,分析了不同小波的动态校正效率。实验结果表明,校正后同一目标异路图像相关值为0．9975,Symlet3小波在两路及多路成像校正中均具有较高效率;在多路成像中,Symlet系列小波相对于其它类型小波校正效率相对突出。此方法为多路CCD成像非一致性在线校正提供了有效的途径。