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以六水氯化镁和六次甲基四胺为原料,采用水热法合成四方体MgO,考察其对有机染料甲基橙和亚甲基蓝的吸附行为.通过TGA-DTA、SEM、XRD、N2-sorption和FT-IR等手段表征样品.结果表明,原料浓度、温度和表面活性剂对四方体MgO结构的形成影响较小,而反应时间的延长有助于有序结构的组装.温度170℃、时间24h、MgCl2·6H2O与C6H12N4浓度比为1∶2和表面活性剂PVP是制备四方体MgO的最佳条件.在溶液浓度10mg · L-1的单一吸附实验过程中,四方体MgO对甲基橙和亚甲基蓝的去除率分别为91.3;和22.3;,吸附过程均为单层吸附且符合Langmuir等温吸附模型和伪二级吸附动力学方程.在溶液浓度40 mg·L-1、甲基橙和亚甲基蓝浓度比3∶1的混合溶液吸附过程中,四方体MgO对甲基橙和亚甲基蓝的去除率分别为80.1;和97.9;. 相似文献
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奥克托金(HMX) 在温度作用下, 会发生热膨胀、 相转变、 热分解等物理、 化学变化, 导致在材料内部产生大量缺陷, 进而会对其宏观性能造成明显影响. 为了深入了解热损伤HMX内部的缺陷演化, 本文采用X射线小角散射和原子力显微技术研究了热损伤HMX的内部缺陷. 结果发现HMX在180 °C相变过程中散射曲线有明显的变化, 颗粒内部生成了大量10nm左右的孔洞, 随着加载时间延长, 其尺寸增大到25nm, 数量明显降低. 当HMX在190 °C、 200 °C保温5h时, 由于HMX热分解内部有新缺陷生成, 小角散射发现其尺寸约为5至8nm, 随着加载温度升高, 其数量增加. 相似文献
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7.
ALD氧化铝单层膜1 064 nm激光损伤特性研究 总被引:2,自引:2,他引:0
采用原子层沉积技术(atomic layer deposition,ALD)在熔石英和BK7玻璃基底上镀制Al2O3单层膜。利用小口径损伤在线测试平台对膜层的1 064 nm激光损伤特性进行了实验测量,获得膜层损伤阈值约为10.3 J/cm2,对比了其与BK7基底损伤阈值之间的差异;利用Nomarski显微镜和原子力显微镜分析讨论了损伤形态的特点,结果表明损伤主要表现为膜层脱落和基片小孔烧蚀,其中小孔深度集中在70 nm~95 nm范围;讨论了损伤发生的诱因,得出膜基界面可能存在吸收源先驱的推断。 相似文献
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陈松林 《应用数学和力学(英文版)》2002,23(5):618-618
ThefollowingLemmastated (in :AppliedMathematicsandMechanics (EnglishEdition) ,2 0 0 1 ,2 2 ( 1 1 ) :1 3 52 -1 3 56)wasappliedtodescribetheasymptoticbehaviorsofsolutionsofaclassofreaction_diffusionequation .Onaccountofthespecialpropertyofthesupersolution(i.e .,anonzerosolution… 相似文献
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With the use of the EB virus-producing lymphoblastoid cell line H_(18), an attempt wasmade to infect the monolayer cell culture of nasopharyngeal tissue from the normal tupaia,and an EB virus-producing, human-tupaia hybrid cell line was established. The mechanism of entry of EB virus into cells other than B lymphocytes is discussedin this paper. 相似文献
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1957年“数学通报”第一期登載的“談談个人学习数学的一点經驗和看法”一文,是一篇宣揚資产阶級唯心主义数学观和极力鼓吹資产阶級个人名利思想的毒草,由于徐先生在讀者面前打扮成一个中国数学界的“权威”,数学“林园”中頗有“植树”本領的“园丁”,同时还装出一付“关怀青年”的面孔,因此迷惑和欺騙了不少幼稚的、盲目崇拜“学者”的青年,在青年中造成了极坏的影响,該文发表以后,不少讀者給徐先生写信,如四川一讀者这样写道:“我生平不愿崇拜别人,除了牛頓和×××以外,就是崇拜你老”。又如广州市某中学生接連給徐先生写了两封信并寄送象片,表示愿意为他当一生的助手,此外,还有北京、天津、南京、湖南、 相似文献