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一、引 言 用显微镜研究晶体缺陷的发展可分为两个方面:其一是采用各种专用显微镜[1],例如,根据泽尼克(Zernike)原理[2]制造的位相衬度显微镜(它能把物体产生的位相衬度转换成可见的强度衬度),和根据诺玛斯基(Nomarski)原理制造的微分干涉衬度显微镜[3]等.其二是在样品的制备和处理方面主要是寻找优秀的腐蚀剂.每种晶体都有一系列的腐蚀剂[4],而且还在不断出现新型的腐蚀剂.用于半导体晶体的主要腐蚀剂见本文的附录. 在对晶体缺陷深入理解的基础上,根据研究工作的需要,充分发挥了显微镜和腐蚀剂的作用,从而形成了若干观察晶体缺陷的方法.本… 相似文献
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显微镜是材料科学等基础研究的工具.制造工艺的进步能极大地提高其性能,也能扩展它的用途.但是,显微镜原理上的某些突破,则起了更重要的作用.例如,Zernike提出的“将物的位相分布转换成象的光强分布”的相位衬度法(phase contrast).根据 Zernike提出的原理,1947年制成的相位衬 相似文献
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