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引言在本系列研究的第Ⅰ部分,我们已对ICP中基体连续辐射的一些性质进行了研究。与Ar连续辐射一样,基体连续辐射强度对电子密度n_c和离子密度n_(M~+)的变化是十分敏感的,与n_c和n_(M~+)成正比,而与T~(1/2)成反比,因为溫度高,电子动能大,要改变其运动形式或运动速度比较困难,因此辐射强度较弱。改变ICP—AES的操作条件因而改变n_c、n_(M~+)、T_e的分布都会导致连续辐射强度的变化。因为ICP是一个空间分布特征不均匀的热、电系统、n_c、n_(M~+)、T_e的空间分 相似文献
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流动注射梯度技术-广义标准加入法校正ICP-AES测定中的干扰 总被引:2,自引:0,他引:2
提出了流动注射梯度技术和广义标准加入法用于校正ICP-AES测定中的基体和光谱干扰,该方法只需配制待测元素的一个标准溶液就可获得GSAM方法中所需要的信息.详细讨论了载流流速、延迟时间等操作参数的选择并分析了两个合成试样、铜合金和钢铁试样中的锌、锰和砷,相对标准偏差在0.5~1.9%之间. 相似文献
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计算机差谱法消除ICP-AES中光谱干扰 总被引:2,自引:0,他引:2
本文提出了在光电二极管阵列检测器-ICP-AES与微机处理的联机系统中,采用差谱法以直接消除光谱干扰的方法。详细讨论了差谱原理,差谱程序及差谱效果。应用差谱法测定了两个参考样品,结果符合要求。 相似文献
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应用正交设计—广义标准加入法扣除电感耦合等离子体发射光谱分析中的干扰 总被引:4,自引:2,他引:2
自从电感耦合等离子体发射光谱分析获得成功的文章发表以来,这一技术在地质、冶金、农业,生物和环境科学中已迅速地成为一种有力的分析工具。然而,现已表明它也存在各种形式的干扰。对于组成复杂的样品,共存物浓度的变化往往引起背景水平的变化。在许多例子中,共存组分的光谱线和带光谱对分析线的光谱重叠会使背景信号产生移动,另外,各种形式的杂散光也会使背景信号发生移动,由于这些干扰的存在,在测定复杂基体样品中的痕量元素时,很难选 相似文献
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