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1
1.
微晶硅薄膜在粗糙表面的大面积均匀生长机制在
赵文锋
陈俊芳
王燕
孟然
赵益冉
邵士运
李继宇
张宇
《化学物理学报》
2010,23(4):447-450
用氩气稀释硅烷作为反应气体,利用感应耦合等离子体在廉价衬底上大面积均匀沉积微晶硅薄膜.X射线衍射和拉曼分析表明衬底能显著地影响晶向,且微晶硅薄膜由小晶粒组成.台阶仪测试表明,微晶硅薄膜具有大范围均匀的特点.探针分析表明衬底附近区域的离子密度及电子温度分布均匀.基于以上结果可知:粗糙表面在晶体结构形成具有重要的作用,电感耦合等离子体反应器可以大面积均匀沉积薄膜.此外,氩气能影响反应过程并提高微晶硅薄膜特性.
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