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本文采用解析的方法计算了应变Si1-xGex层中p型杂质电离度与Ge组分x、温度T以及掺杂浓度N的关系.发现常温时,在同一Ge组分下,随着掺杂浓度的升高,杂质的电离度的先变小,而后又迅速上升到1.在同一掺杂浓度下,轻掺杂时,杂质的电离度随Ge组分的增加先变大,而后几乎不变;重掺杂时,杂质电离能变为0后,杂质电离度为1.低温下,轻掺杂时,载流子低温冻析效应较为明显,杂质的电离度普遍较小,当掺杂浓度大于Mott转换点时,载流子冻析效应不再明显,电离率迅速上升到1.在同一Ge组分下,随着掺杂浓度的升高,杂质的电离度先变小,后变大,而后又迅速上升到1.在同一掺杂浓度下,轻掺杂时,杂质的电离度随Ge组分的增加变大;重掺杂时,杂质电离能变为0后,杂质电离度为1. 相似文献
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受教育部的委托,山西省组织了中专化学编写组,负责中等专业学校非化工类专业通用的化学教学大纲和教材的修订和编写工作。近两年来,我们曾先后用书面调查和组织召开座谈会等形式,广泛地征求了上海、四川、陕西等十个省、市三十余所中等专业学校的化学教 相似文献
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对Weyl关于二阶奇异微分方程边值问题谱性质的一个定理进行了推广和改进,使得所讨论的方程形式更一般且结果更详细. 相似文献
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采用简单浸渍的方法对BiVO4光阳极进行表面钨(W)掺杂,以环丙沙星(CIP)为药品和个人护理产品(PPCPs)模型污染物,研究了W掺杂BiVO4光阳极降解CIP的表面态行为。结果表明,低浓度W掺杂对BiVO4光阳极的晶体结构、表面形貌和光吸收性能没有显著影响。但W掺杂取代了BiVO4光阳极表面的V5+,能抑制BiVO4光阳极表面V5+/V4+还原过程,减少复合中心表面态,同时引入更多氧空穴,增加活性位点表面态。CIP的降解反应受表面活性位点控制。表面W掺杂能有效促进CIP降解的电荷转移,提高BiVO4光阳极光电催化降解性能。 相似文献
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利用算子的谱理论及经典的不等式,讨论两类离散哈密顿系统,得出半退化型系统为强极限点型以及Dirac型系统为极限点型的一些判别准则. 相似文献
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