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1.
本文合成了配体2-氯苯甲醛缩L-天冬氨酸钾和2-氯苯甲醛缩L-天冬氨酸合铜金属配合物,对化合物进行了元素分析,红外光谱、热重分析、质谱等测试;在pH=7.2的Tris-HCl缓冲溶液中,采用循环伏安法、紫外吸收光谱法研究了2-氯苯甲醛缩L-天冬氨酸合铜配合物与DNA相互作用的电子吸收光谱。结果发现铜离子在循环伏安图上呈现一对准可逆氧化还原峰。当加入DNA后,配合物的氧化峰电流明显降低,电子光谱的最大吸收峰明显红移,产生明显的减色效应,说明配合物与DNA的作用较强,作用模式为插入作用。  相似文献   
2.
郭戈  谢海泉  杨荷  马鹤  钱磊 《光谱实验室》2011,28(4):1849-1851
利用三氧化硫在低温条件下与聚苯乙烯合成聚苯乙烯磺酸,反应速度快,副反应少,后处理简单,是一种绿色合成新工艺.实验结果发现,最佳的反应条件为:常压下-20℃时,以氯仿为溶剂,三氧化硫与聚苯乙烯按0.8∶1的质量比混匀,低速搅拌反应时间30min,老化30 min.溶剂与产物分离后,测定纯净产品的磺化度为92.45%.通过...  相似文献   
3.
过渡金属氨基酸席夫碱配合物的合成   总被引:6,自引:0,他引:6  
合成了6个过渡金属氨基酸席夫碱配合物——L-酪氨酸缩水杨醛合铬(钼),L-赖氨酸缩水杨醛合铬(钼),DL-α-丙氨酸缩水杨醛合铬(钼),其结构经UV,IR和元素分析表征。UV测定结果表明,配合物均可与DNA发生插入作用。  相似文献   
4.
纳米级掺锑SnO2导电粉体的水热合成及性能研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
高纯二氧化锡是一禁带宽度达3·8eV的绝缘体,当产生氧空位或掺杂氟、铟、锑等元素后形成N型半导体,具有导电性能。常用于这些领域的N型半导体有掺铟氧化锡(ITO)、掺锑氧化锡(ATO)、掺铝或掺镓氧化锌(AZO、GZO)。由于ATO的机械性能和热稳定性比ITO高,作为抗静电材料广泛应用于涂  相似文献   
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