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Fabrication and Characterization of Ni Thin Films Using Direct-Current Magnetron Sputtering 总被引:1,自引:0,他引:1
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Ni films are deposited by using ultra high vacuum dc magnetron sputtering onto silicon substrates at room temperature, and the high-quality and high-density films are prepared. The parameters, such as thickness, density and surface roughness, are obtained by using small-angle x-ray diffraction (XRD) analyses with the Marquardt gradient-expansion algorithm. The deposition rate is calculated and the Ni single layer can be fabricated precisely. Based on the fitting results, we can find that the surface roughness of the Ni films is about 0.7nm, the densities of Ni films are around 97% and the deposition rate is 0.26nm/s. The roughness of the surface is also characterized by using an atomic force microscope (AFM). The changing trend of the surface roughness in the simulation of XRD is in good agreement with the AFM measurement. 相似文献
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Ni/Ti multilayers, which can be used for neutron monochromators, are designed, fabricated and measured. Firstly, their reflectivities are simulated based on the Nevot-Croce model. Reflectivities of two Ni/Ti multilayer mirrors with periods d = 10.3 nm (M1) and d = 7.8 nm (M2) are calculated. In the calculation, the reflectivity of the Ni/Ti multilayer is taken as a function of the gazing angle with different roughness factors δ =1.0 nm and = 1.5 nm. Secondly, these two multilayers are fabricated by the direct current magnetron sputtering technology. Thirdly their structures are characterized by small-angle x-ray diffraction. The roughness factors are fitted to be 0.68 nm and 1.16nm for M1 and M2, respectively. Finally their reflective performances are measured on the V14 neutron beam line at the Berlin Neutron Scattering Centre (BENSC), Germany. The experimental data show that the grazing angle of the reflected neutron intensity peak increases, but the reflected neutron intensity decreases, with the decreasing periods of the multilayers. 相似文献
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The B4C/Mo/Si high reflectivity multilayer mirror was designed for He-Ⅱradiation (30.4 nm) using the layer-by-layer method. The theoretical peak reflectivity was up to 38.2% at the incident angle of 5℃. The B4C/Mo/Si multilayer was fabricated by direct current magnetron sputtering and measured at the National Synchrotron Radiation Laboratory (NSRL) of China. The experimental reflectivity of the B4C/Mo/Si multilayer at 30.4 nm was about 32.5%. The promising performances of the B4C/Mo/Si multilayer mirror could be used for the construction of solar physics instrumentation. 相似文献
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<正> 一、必须充分发挥基础课教师的作用,加强一年级学生的思想教育由中学升入大学,是一个人学习生活。重要一步,珍惜大学的宝贵时光,力求在大学阶段取得更高的学习效果,是每个大学生祟高而神圣的职责;然而,不少一年级的学生,自我管理能力较差,他们的学习目的往往不明确;学习方法又很不适应。因此,为了使大学生在四年的学习中,能够健康地在德、智、体、美、劳诸方面得到发展,做好一年级新生的教育工作是关键。在学校里,教师队伍不仅数量多,而且与学生接触的时间长,最直接。教师除了讲课外,还通过辅导、答疑、带实验、实习、指导毕业论文等教学环节和学生接触,关系密切。而首当其冲的是基础课教 相似文献
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经典弹性理论在近代工程技术中得到广泛应用,但其本构关系中不包含任何与尺寸相关的参数,因此不适用于微观结构,不能预测和解释尺寸效应.广义弹性理论增加了偶应力及其对应的曲率张量,完善了对小变形的几何描述,适用于微结构的尺寸效应研究.该文采用广义弹性理论,并结合Hamilton变分原理推导了悬臂微梁的振动微分方程,对微梁的固有频率及其模态进行了分析.结果表明,随着微梁厚度的不断减小,固有频率的尺寸效应与其对应的模态密切相关.扭转和弯曲模态包含了旋转变形,其对应的固有频率显著提高,表现出了显著的尺寸效应;而拉压模态不涉及旋转变形,固有频率未产生明显变化,没有尺寸效应. 相似文献
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W/Si多层膜反射镜在硬X射线天文望远镜中有重要应用. 为减小其应力对反射镜面形和望远镜分辨率的影响, 同时保证较高的反射率, 采用150, 175和200 ℃ 的低温退火工艺对采用磁控溅射镀制的W/Si周期多层膜进行后处理. 利用掠入射X射线反射测试和样品表面面形测试对退火前后W/Si多层膜的应力和结构进行表征. 结果表明, 在150 ℃ 退火3 h 后, 多层膜1级峰反射率和膜层结构几乎没有发生变化, 应力减少约27%; 在175 ℃ 退火3 h后, 多层膜膜层结构开始发生变化, 应力减少约50%; 在200 ℃退火3 h 后, 多层膜应力减小超过60%, 但1级布拉格峰反射率相对下降17%, 且膜层结构发生了较大变化. W, Si界面层的增大和相互扩散加剧是应力和反射率下降的主要原因. 相似文献
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汽车的横摆角速度对汽车稳定性和安全性有较大影响,针对汽车行驶控制时的抗干扰能力,目前还没有特别有效的汽车横摆角速度控制策略;创新性设计了基于自抗扰控制理论的用于四轮轮毂电动汽车横摆角速度的高性能控制策略;首先分析了汽车横摆角速度控制的动态模型,并通过数学变换,将其转换为二阶自抗扰控制器被控对象的标准形式;再设计双层控制结构,包括直接横摆力矩制定层和转矩分配层;在直接横摆力矩制定层,利用二阶自抗扰控制器计算出控制汽车横摆角速度所需的附加横摆力矩;在转矩分配层,设计了转矩分配算法,利用附加横摆力矩得到4个车轮的指令转矩,进而控制电动汽车横摆角速度;最后,通过Matlab/Simulink和汽车动力学仿真软件CarSim联合仿真验证了所设计控制策略的有效性。 相似文献