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用磁控溅射方法在玻璃基底上制备了非晶Si/SiO2超晶格.利用透射电子显微镜 (TEM) 和X射线衍射技术对其结构进行了分析,结果表明,超晶格中Si层大部分区域为非晶相,局域微区呈现有序结构,其厚度由1.8—3.2nm变化,SiO2层厚度为4.0nm.并采用多种光谱测量技术,如吸收光谱、光致发光光谱和Raman光谱技术,对该结构的光学性质进行了系统研究.结果表明,随纳米Si层厚度的减小,光学吸收边以及光致荧光峰发生明显蓝移,Raman峰发生展宽,即观测到明显的量
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利用活化气体做氧源,使生长气压比普通脉冲激光沉积方法(PLD)低2~3个数量级,用激光分子束外延在SrTiO3(100)衬底上制备出临界转变温度Tc0=85~87K,临界电流密度Jc≥1×106A/cm2的高质量YBCO超导薄膜.原子力显微镜(AFM)测得表面无明显颗粒,均方根粗糙度约为7.8nm.在这种薄膜基础上制备的Josephson量子干涉器件(DC-SQUID)具有良好的温度循环稳定性. 相似文献
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用脉冲激光沉积法在立方织构的Ni基片上成功地外延了YBCO超导薄膜 ,其临界电流密度高达 1 .1 5MA cm2 .X射线衍射分析结果表明Ni CeO2 YSZ YBCO多层结构都是c轴取向 ,CeO2 和YSZ缓冲层能有效地改进薄膜织构 ;扫描电子显微镜结果表明Ni CeO2 YSZ YBCO结构所有生长层面存在类似层状的形貌 ,而薄的一层Ag膜能有效地填充各个生长阶段由于高温下热膨胀系数不匹配形成的微裂缝 ,其结果是改进了薄膜微观结构 ,提高了临界电流密度 . 相似文献
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We have prepared three groups of Ge–As–Se glasses in which the Se content is 5.5 mol%, 10 mol%, and 20 mol%rich, respectively. We explored the possibility of suppressing the formation of the Ge–Ge and As–As homopolar bonds in the glasses. Thermal kinetics analysis indicated that the 5.5 mol% Se-rich Ge_(11.5)As_(24)Se_(64.5) glass exhibits the minimum fragility and thus is most stable against structural relaxation. Analysis of the Raman spectra of the glasses indicated that the Ge–Ge and As–As homopolar bonds could be almost completely suppressed in 20 mol% Se-rich Ge_(15)As_(14)Se_(71) glass. 相似文献
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用磁控溅射方法在玻璃基底上制备了非晶Si/SiO2超晶格.利用透射电子显微镜 (TEM) 和X射线衍射技术对其结构进行了分析,结果表明,超晶格中Si层大部分区域为非晶相,局域微区呈现有序结构,其厚度由1.8-3.2nm变化,SiO2层厚度为4.0nm.并采用多种光谱测量技术,如吸收光谱、光致发光光谱和Raman光谱技术,对该结构的光学性质进行了系统研究.结果表明,随纳米Si层厚度的减小,光学吸收边以及光致荧光峰发生明显蓝移,Raman峰发生展宽,即观测到明显的量子尺寸效应. 相似文献
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从声子-电磁激元频率色散关系的普遍公式出发,推导出了单轴晶体的Merten方程和电磁激元的频率色散关系。测量了BaTiO3和Ce:BaTiO3晶体的简正模和斜声子的喇曼散射谱,并根据Merten方程,拟合出了斜声子的方向色散曲线;记录了A1类电磁激元在不同波矢值下的喇曼谱,观察到其频率色散现象.根据以上结果,对A1(TO)模喇曼谱中两个宽的非对称峰的归属和BaTiO3晶体的结构相变机制进行了讨论;计算出了这两种晶体的受夹介电常数;分析了掺Ce对BaTiO3晶体结构的影响。
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