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1.
18.2nm Schwarzschild显微成像系统初步研究
王占山
曹健林
陈波
马月英
陈斌
张俊平
王兆岗
高宏刚
吕俊霞
陈星旦
《光学学报》
1996,16(4):531-536
叙述了Schwarzschild型正入射软X射线多层膜显微成像系统的设计、制作和成像实验,其工作波长为18.2nm,放大倍数为10.5×,极限分辨率小于0.2μm。采用Mo/Si多层膜,周期和层数分别为9.5nm和41。用激光等离子体光源对20pl/mm和55pl/mm的栅网进行了软X射线显微成像实验,所得结果表明此显微成像系统的分辨率在微米量级。
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