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1.
大调制度表面正弦图形制作工艺研究
孙光宇
毕晓川
洪义麟
徐向东
霍同林
付绍军
张新夷
《光学技术》
1999,(3)
表面起伏靶是惯性约束聚变(ICF)分解实验中的重要实验用靶。为了得到调制深度大于10μm光刻胶表面正弦图形,采用激光全息光刻的方法,固定曝光条件,同时保证曝光量足够,然后通过控制显影条件来实现起伏深度的变化。成功得到了调制深度分别为15μm,25μm,35μm,周期分别为20μm,55μm和75μm的表面正弦调制图形
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