排序方式: 共有9条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1
1.
2.
i线投影光刻曝光系统的光学设计 总被引:3,自引:1,他引:2
叙述具有同轴对准特性的光学投影物镜双远心结构和均匀照明光学系统原理。为了满足i线光刻所需的光学传递函数要求,讨论了光刻分辨率和数值孔径的关系。设计了一种新的双远心投影物镜,其数值孔径NA=0.42,放大倍率M=-1/5,像场尺寸15mm×15mm(直径21·2mm),共轭距L=602mm。用光学设计程序ZEMAX-XE计算此i线物镜的像质。设计结果说明,整个视场内波差<λ/4,MTF>0.55,当空间频率为715pairlines/mm,使用波长为365士3nm时。可以实现0.7μm光刻分辨率;照明均匀器,由81个小方型透镜组成一方列阵。用本文模拟计算软件OPENG计算被照像平面上的光能分布,说明实际系统的照明不均匀性为土2%。 相似文献
3.
4.
高精度1/4波片的设计 总被引:1,自引:1,他引:0
本文论述了高精度1/4波片的设计思想、波片厚度公差、角度公差的确定,以及波片的测量和结果。 相似文献
5.
6.
7.
8.
9.
1