首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   2篇
  免费   1篇
化学   1篇
物理学   2篇
  2020年   2篇
  2019年   1篇
排序方式: 共有3条查询结果,搜索用时 78 毫秒
1
1.
Achromatic Talbot lithography(ATL) with high resolution has been demonstrated to be an excellent technique for large area periodic nano-fabrication. In this work, the uniformity of pattern distribution in ATL was studied in detail. Two ATL transmission masks with ~50% duty cycle in a square lattice were illuminated by a spatial coherent broadband extreme ultraviolet beam with a relative bandwidth of 2.38%. Nonuniform dot size distribution was observed by experiments and finite-difference time-domain simulations. The sum of the two kinds of diffraction patterns, with different lattice directions(45° rotated) and different intensity distributions,results in the final nonuniform pattern distribution.  相似文献   
2.
相干X射线衍射成像方法是一种先进的成像技术,分辨率可达纳米量级.国际上大多数的同步辐射装置和自由电子激光装置都建立了该成像方法,并有将其作为主要成像技术的趋势.上海光源作为目前国内唯一的一台第三代同步辐射光源,尚未建立基于硬X射线的相干衍射成像实验平台.随着一批以波荡器为光源的光束线站投入使用,使得该方法的建立成为了可能.本文基于上海光源BL19U2生物小角散射线站,通过有效的光路设计,搭建了相干衍射实验平台,在12 keV和13.5 keV能量点均获得了硬X射线相干光束,并基于小孔衍射测量了入射光束的空间相干长度.该平台支持常规和扫描相干衍射实验模式,对小孔衍射图样及波带片扫描衍射图样实现了正确的相位重建,证明了该平台初步具备开展硬X射线相干衍射成像实验的能力.硬X射线相干衍射成像实验平台为国内首次建立,将为国内该实验方法的发展和应用提供有效的软硬件支持.  相似文献   
3.
利用压强升高法建立了极紫外(Extreme ultraviolet, EUV)光刻胶产气检测系统,对以分子玻璃(Molecular glass)螺芴(9,9′-Spirobifluorene, SP)为主体材料的光刻胶薄膜体系Film A、B、C和D进行产气的定性和定量分析,其中, Film A的主体材料外围取代基团为叔丁氧羰基(t-Butylcarbonyl, Boc), Film B和C是在Film A光刻胶薄膜顶层覆盖不同厚度的保护层, Film D的主体材料外围取代基团为醋酸金刚烷酯(Adamantyl acetate, Ad)。采用四极杆质谱检测光刻胶薄膜在EUV曝光条件的产气组分,结果表明, Film A产气的主要来源为光照产生的酸催化光刻胶主体材料脱Boc取代基反应释放的异丁烯(C4H8)和CO2气体,以及少量由于产酸剂(Photo-acid generator, PAG)分解释放的苯类挥发性组分。覆盖保护层的Film B、C产气成分与Film A类似,但各离子峰的丰度明显降低。Film D的质谱图上显示气...  相似文献   
1
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号