浅谈电影胶片醋酸综合症的危害及其预防措施

电影胶片是一类重要的历史文化遗产,也是国家档案保存的重要组成部分.三醋酸纤维素酯电影胶片是馆藏最多的一类影片,然而其片基构成材料三醋酸纤维素酯水解而产生的醋酸综合症是危害其安全存贮的主要病害,被称为电影胶片的“癌症”.本文分析了醋酸综合症产生的原因,介绍了醋酸综合症的危害及预防电影胶片发生醋酸综合症的措施.     

强流脉冲相对论电子束加速器：—闪光二号

本文介绍了在西北核技术研究所建成的一台低阻抗脉冲电子束加速器——闪光二号。它主要用于核辐射效应模拟。加速器系统由Marx发生器、水介质同轴线和二极管三大主机部件以及十几个配套设备所组成。文中给出了在允电电压±55kV和±70kV两个电压等级下调试和运行的结果。最大输出电流600kA,管电压1.2MV。目前该加速器已用于电子束和X射线的实验研究。     

醋酸综合症对电影胶片影像影响研究

醋酸综合症是醋酸纤维素酯电影胶片特有病害现象，是威胁其安全保存的主要因素。醋酸综合症导致电影胶片的几何尺寸改变、机械强度降低、影像信息严重受损。本文采用基恩士VK-X250K形状分析激光显微镜研究了醋酸综合症电影胶片片基层表面粗糙度；采用X-Rite Model VS450分光光度计研究了其表面对可见光的反射率。实验结果表明胶片发生醋酸综合症之后，其表面粗糙度增大，对可见光的漫反射增强。由此可以说明醋酸综合症发生之后，胶片表面析出的增塑剂形成粗糙界面，对可见光的漫反射增强，在放映过程中透射光减弱，这是胶片记载影像受损的主要因素。     

大唐西市土遗址苔藓物种鉴定及其病害成因分析

通过光学显微镜与扫描电子显微镜(SEM)相结合的分析方法对大唐西市土遗址表面滋生的苔藓进行分离鉴定,确定该苔藓为四川湿地藓Hyophila setschwanica(Broth.).在此基础上,采用X射线荧光光谱(XRF)、X射线衍射(XRD)等分析手段对遗址内5处土样进行了分析.结果表明该遗址土壤中钙含量远高于一般表土平均量,且土壤含水量最高为23%,p H呈弱碱性.该种土壤环境为四川湿地藓的繁殖提供了有利的条件,导致四川湿地藓病害的广泛滋生,充分解释了四川湿地藓生长旺盛的根本原因,为后期有效治理该病害提供了一定理论依据.     

馆库温湿度对醋酸纤维素酯胶片物理性能影响的研究

醋酸纤维素酯胶片档案保存环境的温湿度是影响胶片长期保存的关键因素之一。由于技术及理念等方面原因,使得我国大部分档案馆的保存环境均未达到国际标准组织所推荐的条件,致使这些宝贵的胶片档案正在遭受醋酸综合症的危害。本文选取20世纪80年代国产的醋酸纤维素酯胶片作为研究对象,研究了接近实际馆藏温度和湿度对胶片片基层和乳剂层的影响。结果表明:当胶片档案保存的实际温度高于20℃、湿度高于60%RH时,均会对胶片的乳剂层和片基层造成不同程度的损伤,特别是高湿条件会严重损毁胶片乳剂层所载信息。本研究对胶片档案的保存具有一定的参考意义。     

Dy、Lu掺杂对TSAG晶体磁光特性影响研究

Tb₃Sc_xAl_5-xO₁₂(TSAG)晶体是一种性能优异的磁光晶体材料,解决大尺寸TSAG晶体生长过程中开裂问题对高功率磁光隔离器的应用有着重要的意义。本文采用提拉法晶体生长技术,考察了稀土离子Dy、Lu在晶体生长过程中的分凝规律,分析了Dy、Lu掺杂对TSAG晶体性能的影响。结果表明,Dy、Lu掺杂有助于解决大尺寸TSAG晶体的开裂问题,生长的TSAG晶体均具有良好的内部质量,且所得晶体消光比均大于33 dB。Lu掺杂对TSAG晶体的维尔德常数有一定提升,而Dy掺杂则对TSAG晶体的维尔德常数提升无明显作用。Dy、Lu共掺的TSAG晶体磁光性能与TSAG基本相近,所制备晶体均满足高功率激光隔离器生产要求。     

醋酸环境对醋酸胶片物理性能的影响研究

醋酸胶片的片基材料醋酸纤维素酯水解产生的"醋酸综合症"是影像部门保存醋酸胶片过程中遇到的最大技术难题之一,目前还没有较好的治理方法,其在降解过程中释放出的醋酸严重影响胶片的耐久性,关于其物理性能变化及相关性的研究较少.本文通过模拟密闭环境中醋酸浓度的累积实验,系统地分析了醋酸在胶片降解过程中对胶片物理性能的影响.实验结果表明,醋酸环境会加速胶片的降解,且随着醋酸浓度的增加,胶片扭曲变形程度增加,胶片的降解程度(酸度)增加;抗张强度减弱,但耐折度增加;含湿量和胶片乳剂层面的亲水性增加,同时胶片的热稳定性变差.     

磁性二氧化硅复合纳米粒子的合成及其与青铜器的相互作用研究

采用反相微乳液法, 合成了以PVP分散的磁性Fe₃O₄纳米粒子为核、SiO₂为壳并复合有荧光标记物钌联吡啶的核壳型复合功能纳米粒子. 在对该功能型二氧化硅复合纳米粒子进行TEM、荧光特性和磁性等特性表征的基础上, 重点研究了水溶性高聚物PVP溶液对Fe₃O₄纳米粒子的分散性, 并将其均匀的包入SiO₂壳中, 基于此研究了该功能型二氧化硅复合纳米粒子与青铜器之间的相互作用、以功能型复合纳米粒子为材料对青铜器腐蚀机理进行了在线、无损、实时监测以及将复合纳米材料从被分析体系中无损去除的方法, 发展了适合于去除吸附于青铜器文物表面的功能型纳米粒子的新方法. 这一研究结果为以该纳米粒子为基质构建适合于青铜器表面成分分析的纳米传感器奠定了基础.     

霉菌对黑白照相底片背涂层影响研究

霉变是黑白照相底片常见的病害现象之一,严重影响其记载信息的完整性与清晰度,危害其长久保存。本文采用Keyence VK-X250K形状分析激光显微镜研究了霉变照相底片背涂层的表面形貌,测试了其表面算数平均高度(Sa)、最大高度(Sz)、表面性状高宽比(Str)、算数平均山峰曲率(Spc)、界面展开面积比(Sdr)等表面粗糙度参数。实验结果表明,黑白照相底片发生霉变后其背涂层被霉菌严重侵蚀,形成凹凸不平的粗糙表面,此粗糙表面的存在是导致底片霉变之后所记载图像清晰度与完整性受损的主要原因之一。