新型抛光机“LP—1000”的机理分析与抛光模制作工艺

随着我国现代科学技术的发展,特别是激光技术、微电子学技术、空间技术的发展,对光学零件的精度要求不断的提高,因而出现了新的高精度设备“LP—1000”环形抛光机。本文主要根据我们使用“LP—1000”环形抛光机的实践。分析比较LP—1000环形抛光机与目前使用的“_ⅢP—350”三轴抛光机抛光机理的区别,其中包括两种抛光机的抛光机理、运动分析、受力分析及“LP—1000”抛光模的制造工艺,加工高精度光学零件易发生的问题和解决方法。     

环形精磨、抛光机应用

为了提高环形精磨、抛光机的应用效率，文章探讨了对环形精磨、抛光机进行改造，扩大其应用范围，达到双面精磨，双面抛光，可提工作效率，减轻劳动强度。