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物理学
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1986年
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1
1.
用302负型光刻胶刻制光学度盘
宋希明
董连和
张国玉
李泽源
《光学技术》
1986,(4)
<正> 一、引言刻制光学度盘,一般采用刻划镀铬工艺,如果批量大,则可采用先用刻划的方法制得母版,再用虫胶镀铬工艺进行大量复制。可是,对于图1所示的度盘就无法用刻划镀铬的工艺来完成它,因为两圈圆刻线太宽了。显然,采用光刻的办法,就能比较方便地完成此任务。
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